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关于国产EUV光刻机的消息：中芯国际已预留产能，等待国产EUV光源的正式投产。华特气体的高纯钼材料订单增加了五倍，显示国产光刻机对本土供应链的积极影响。之前有外媒报道，国产EUV光刻机预计三季度进入试生产阶段，光源稳定性连续100小时波动仅0.8%，优于ASML最新机型，设备体积缩小至三分之一，已获专利并延长光刻镜使用寿命至1000小时。这几年来，国内官方机构多次披露EUV光刻机信息：2021年，EUV光源和双工件台系统取得了显著进展。2021年，成功研制了直线式劳埃透镜镀膜装置和纳米聚焦镜镀膜装置，满足了EUV光刻镜头的高制程需求。2022年，国内首台高能同步辐射光源设备的安装和运行，为EUV光刻技术提供了重要的技术支撑。2022年，EUV光刻镜头的镜面光洁度达到极高标准（不超过50皮米），完成我国在实现高端芯片制程中的最后一个关键挑战。至今，我国终于实现最高端的EUV光刻机国产化，之前外国人说给我们图纸也造不出来光刻机，现在光刻机已经复制了盾构机的路线，再一次创造了他们认为不可能创造的奇迹。

最近有业界爆料说，中国最大的芯片制造公司——中芯国际，在制造最顶尖的5nm芯片方面取得了很大进步，做出来的好芯片比例（叫合格率）达到了60%-70%。如果这个消息是真的，那意味着中国在制造高级芯片的技术上，已经挤进了世界顶级玩家的行列！为什么这个“合格率”这么重要？芯片制造像印钞一样精密复杂。做一批芯片出来，总会有一些坏掉的。合格率越高，说明技术越成熟、浪费越少，成本就越低，量产更容易。爆料还说，中芯这个5nm技术的合格率，和韩国三星公司刚刚用在最新折叠手机里那个更先进一点的3nm芯片技术差不多。这说明中芯把目前的技术（FinFET结构）发挥到了接近极致。