前段时间，在Mate70系列发布后，华为公开发声，称该机型所有芯片都具备国产能力！此消息一出，瞬间引发了业界的热议。在很多网友看来，这不仅意味着华为成功突围了美西方的芯片封锁，更标志着国内已搭建出了至少7nm工艺的先进制程芯片供应链体系。
对此，美西方霸权主义可谓一头雾水，他们始终想不明白，在其严密封锁EUV光刻机等核心设备材料的情况下，华为等中企是如何做到的。不仅如此，就连ASML对华为芯片的巨大进步也是不吝赞美。
不过，值得一提的是，虽然ASML承认了华为芯片，但在其看来，大陆现阶段的芯片制造水平，与台积电和三星相比仍有10至15年的差距，而这个差距，主要就是来自于EUV光刻机设备。
我们从不提倡盲目的吹捧或唱衰，客观分析，ASML的这番表态其实不无道理，尽管国内的确已经可以独自制造7nm芯片，可由于缺少EUV，以至于产能和良率都大打折扣，生产成本也更高。
哪怕直至今日，美西方也仍然认为，只要牢牢限制住EUV光刻机，那么大陆芯片产业就很难在高端市场有所作为。但让他们做梦也没想到的是，就在近期，大陆市场再次传出了重磅消息。这让不少外媒都纷纷惊呼，EUV光刻机事件开始反转了。
据悉，哈工大由樊继壮教授带领的科研团队，采用放电等离子体技术，成功制备出了13.5nm的极紫外光源。相比ASML采用的EUV光源，我们更具优势，不仅能量转换率高，而且体积更小、造价更低。
最关键的是，哈工大的技术突破绝非只是停留在图纸之上，其实早在2022年，哈工大就推出了光源样机，至2024年，又接连完成了原型机的研发并通过了测试。这意味着，哈工大此次取得的研发成果，将会从根本上弥补国内光刻机产业在EUV光源方面的短板，极大的推动国产EUV问世的步伐。
不可否认，被誉为人类科技智慧巅峰之作的EUV光刻机构造极其复杂，除了光源之外，还涉及到了双工件台系统和物镜等众多顶尖技术，即便是光刻领域的“霸主”ASML，也要依赖全球5000多家供应商。
可我们的优势也很明显，那就是全世界最完备是工业体系，虽然国内在EUV其他核心技术领域与ASML仍然有一定的差距，但不积跬步无以至千里，凭借中国科学家的智慧以及不屈的精神，突破只是不太久的时间问题罢了，哈工大制备出13.5nmEUV光源就是最好的证明。
而对于哈工大此次取得的科研成果，新加坡毕盛资产管理创始人王国辉给予了高度评价，认为这是国产EUV诞生的关键转折点。而一旦大陆市场完成对EUV光刻机的研发与量产，那么这场“芯战”就会宣告结束，不仅中芯国际有望追平台积电，华为也将彻底挣脱“枷锁”、一飞冲天。
正所谓“有人欢喜有人愁”，现如今，该轮到美霸主主义焦头烂额了，为打压大陆半导体产业，它几乎所有的手段都用上了，EUV光刻机可以说是其最后的“底牌”了，伴随着这道技术壁垒被攻破，它恐怕就再没招儿了。
还有ASML，曾经叫嚣着就算把图纸给中国，我们也造不出EUV光刻机，可谁曾想打脸来得这么快。盾构机的前车之鉴还历历在目，但凡是被中国突破的技术或设备，几乎都会被打成白菜价，光刻机也不会例外。
可以预见，若荷兰方面仍对老美言听计从，盲目的打压大陆半导体，那么ASML不仅会丢失在中国市场的份额，它在国际市场未来也必将迎来更大的竞争压力。对此，你们怎么看？
评论列表