2020年相关禁令的发布，让越来越多的人意识到光刻机的重要性。为了攻克这一卡脖子难题，国家机构以及部分企业都加大了研发力度。

可高端光刻机的研发哪有这么容易，想当年美国和欧洲可是用举国之力，才将极紫外光刻机技术研究出来。我国想要在短时间内完成攻关，几乎没有可能。

不过，在光刻机的一项关键元器件上，中国技术却领先美企十五年。这项元器件正是KBBF晶体，这类晶体材料不单单被应用于光刻机制造，而且还是激光制导和激光武器的核心部件。

用业界的话来讲，KBBF晶体的重要性堪比稀土。值得庆幸的是，在这方面，我国长期垄断着相关技术，美国甚至因此被封锁了十五年之久。

这还要追溯到上个世纪六十年代，我国在非线性光学材料领域落后海外十几年。为了让国家追上世界的脚步，国内为之奋斗的仁人志士不在少数，陈创天就是其中之一。

想当年，身为中科院院士的陈创天，每个月只领147元的薪资。但为了中国科技坚持研发，在九十年代初期发现了这种非线性光学晶体材料——KBBF晶体。

陈创天团队用了6年的时间，培育出了这种比美国ADP晶体效果好四五倍的KBBF晶体。

在当时，这类晶体的紫外线波段性能达到世界顶级水准，而且只有中国能够研制出KBBF晶体。

考虑到KBBF晶体的重要性，当年我国决定停止对外出口并进行深入研究，这让美国等国家失去了晶体来源。

向来喜欢草木皆兵的美国开始大力研发KBBF晶体，终于该国在2016年实现自主研发。

不过，中国在先进激光晶体方面的研究并没有止步于KBBF晶体。目前，我国还掌握着BBO、LBO等非线性晶体材料的核心制造技术，在这一领域，美国并没有赶超我国。

虽然这一项元件的自主研发和领先，并不能让国产光刻机走出瓶颈。但在笔者看来，只要坚持下去，我国会在越来越多的小零件上实现自研。

日积月累，总有一天能够完成EUV光刻机的攻关。不过在此之前，面对产业链国际化的半导体市场，笔者认为在创新的同时，也应该坚持合作和开放。

经济全球化是不可逆转的大趋势，掌握核心技术是为了不受制于人，而不是为了与美国半导体产业一样，利用技术优势扰乱市场秩序。

文/谛林 审核/子扬 校正/知秋