英特尔高管：未来芯片制造将减少对 ASML 高 NA EUV 光刻机的依赖，转而提升刻蚀技术的核心地位

据投资研究平台 Tegus 披露的讨论内容，一位匿名英特尔总监表示，未来晶体管设计将降低对先进光刻设备的依赖，转而提升刻蚀技术的核心地位。 ​​​