央视首次曝光！每台4亿美元重180吨，全世界最先进光刻机揭开面纱。2025年5月27日，央视的镜头对准了一个庞然大物，它就是目前全球最先进的光刻机：High-NAEUV极紫外光刻机。 咱先把话撂这儿，央视这次曝光High-NAEUV光刻机，那可真是在全球芯片圈扔下了一颗“科技原子弹”！您想想，这台重达180吨、身价4亿美元的大家伙，得拆成250个集装箱、用7架波音747飞机才能运走，光这阵仗就知道它不简单。 更绝的是，全球顶尖的芯片厂台积电、三星、英特尔为了抢它，都快把ASML的门槛踏破了，可到现在也只有这三家拿到了订单。央视在这时候把它摆到全国观众面前，背后的深意可不止是“秀肌肉”那么简单。 先说说这台光刻机的“过人之处”。咱都知道，芯片这玩意儿就跟盖房子似的，房子要想盖得高，砖头就得越小越结实。High-NAEUV光刻机也是这个道理，这家伙用的是波长只有13.5纳米的极紫外光，啥概念？头发丝直径的万分之一！ 就靠这束光，它能在指甲盖大小的硅片上刻出2纳米宽的电路，相当于在一粒沙子上画出整个北京城的地图。相比之下，现在市面上普通的EUV光刻机只能做到5纳米，这差距，就跟自行车和高铁似的。 更绝的是，它的数值孔径从0.33提升到了0.55，啥意思？打个比方，以前的光刻机是近视眼戴眼镜，现在直接升级成了望远镜，能把芯片上的电路看得更清楚、刻得更精细。有了它，芯片的性能能提升30%，功耗还能降低40%，以后手机、电脑、AI服务器都能跑得更快、更省电。 再说说央视为啥选在这时候报道。您琢磨啊，美国这些年对咱们搞技术封锁，又是限制ASML卖光刻机，又是拉拢盟友围堵咱们的半导体产业。去年荷兰政府跟着美国屁股后面，把部分DUV光刻机也列入了出口管制，摆明了是想卡死咱们的脖子。 可咱们这边呢？上海光机所的科研团队悄悄憋了个大招，用固体激光器突破了EUV光源技术，转换效率都达到3.42%了，虽说离商用的5.5%还有点距离，但已经是国际领先水平了。新凯来公司更猛，直接搞出了能覆盖28纳米到5纳米制程的薄膜沉积设备，还跟华为合作研发EUV光刻机，听说2025年第三季度就要试生产了。 再说的直白点，央视这时候曝光High-NAEUV，说白了就是告诉全世界：“你们有的，我们正在造；你们卡脖子的，我们早晚能突破！” 这就好比你邻居天天炫耀自己家的跑车，结果有一天你突然开了辆自己造的超跑出来，还比他家的更快、更省油，你说他能不着急吗？ 现在ASML慌了，一边忙着给台积电、英特尔赶工High-NAEUV，一边又偷偷申请向中国出口旧款EUV光刻机，这吃相跟“又当又立”的小媳妇似的。 不过，咱也得客观地说，国产光刻机要走的路还长着呢。 就拿High-NAEUV来说，它里面的反射镜得用德国蔡司的技术，激光源得靠美国Cymer的设备，就连里面的精密轴承都得从日本进口。ASML虽说自己只生产15%的零件，但它能把全球5000多家供应商的技术整合到一起，这本事可不是一天两天能学来的。 相比之下，咱们的新凯来公司虽说在2025年展会上一口气发布了31款设备，但真正能跟ASML硬碰硬的，还得再等等。 说到底，现在全球芯片产业就跟一场马拉松，美国带着荷兰、日本跑在前面，咱们在后面紧追不舍。央视曝光High-NAEUV，既是给国内半导体产业打打气，也是给那些卡咱们脖子的国家提个醒：“别把人逼急了，兔子急了还咬人呢！” 您就等着看吧，用不了多久，咱们自己的High-NAEUV光刻机肯定能在全球市场上跟ASML掰掰手腕，到时候那些曾经嘲笑咱们的人，恐怕得把下巴都惊掉喽！
评论列表