荷兰外交大臣刚访华，美国白宫官员重申：对华EUV光刻机出口限制必须继续实施！ 5月22日荷兰外交大臣费尔德坎普访华并与中方举行会谈。双方在全面深入交换意见基础上达成六点共识，其中包括“双方讨论了双边贸易关切，同意通过现有渠道，就包括半导体技术在内的多领域合作保持密切沟通”。 5月23日 ，白宫人工智能及加密货币事务主管戴维·萨克斯（David Sacks）周五表示，限制向中国出售极紫外 (EUV) 光刻设备是美国在半导体领域“最重要的单一出口管制措施”。 2025年1月份 荷兰首相迪克·斯霍夫在瑞士达沃斯世界经济论坛期间接受彭博社采访时表示，美国总统唐纳德·特朗普将坚持对荷兰阿斯麦公司（ASML）向中国出口光刻机实施管制。这表明美国”围堵之心不死“。 2022年 荷兰 阿斯麦CEO曾表示，公司担心美国为限制对华出口而加大施压。荷兰已禁止向中国出售最新型光刻设备和不太先进的技术。 美国于2022年10月开始对中国实施半导体出口限制，试图阻止北京开发尖端技术。美国当局担心，如果在相关设备生产方面处于世界领先地位的日本和荷兰公司继续向中国供应产品，贸易管制可能会出现漏洞。为此，华盛顿要求东京和阿姆斯特丹加入反华措施。 不过荷兰政府表示，因为ASML受到美国压力 禁止向中国出口高端芯片设备，也让荷兰受到极大的损失，这些损失影响到了国家经济的发展，荷兰能否跳出美国的”圈子“呢，这一切就看荷兰的抗压能力了。 不过面对着美国的这种围堵心态，中国还是要立足于自己，掌握自个的核心技术，方能不看美国脸色。不过当下中国DUV光刻机中国可以自我制造，特别是在28nm制程的光刻机中国甚至可以出口比荷兰的设备便宜60%之多。 2025年3月，科技媒体Wccftech的一则报道，在全球半导体领域引发关注。报道称中国国产EUV光刻机预计在第三季度进入试生产阶段，采用创新性的激光诱导放电等离子体（LDP）技术。哈工大团队已宣布攻克13.5nm极紫外光源技术，采用放电等离子体方案，在能量转换效率提升、成本降低及体积缩小等方面实现了弯道超车，取得了令人瞩目的突破。 ASML采用的是激光等离子体（LPP）技术路线，是利用高能激光去轰击液态锡靶材，进而产生等离子体，释放出波长为13.5纳米的EUV光。但LPP技术存在诸多弊病，转换效率偏低，仅有约5% ，且整个系统构造繁杂，维护成本高昂，这些难题严重制约了技术进一步发展与应用。 而中国采用了LDP技术，EUV转换效率能达到10 - 15% ，并且光源稳定性也更胜一筹，有望在未来打破现有市场垄断格局，为全球芯片制造产业带来新的变革。 所以再给中国一点时间，EUV光刻机技术，中国必能突破，届时就看美国是否还能力阻止呢？最后美国还是会下决心 阻止中国EUV设备出口,不过中国掌握了核心技术那更不用担心了，可以挺起腰杆子说话，世界的技术话语权就更强大了！ 世界芯片需要中国将指日可待！