以前说光刻机特别难造，美国撮合了一大堆国家和公司联合研发，才诞生了ASML，如今上海微电子已经研发出了光刻机，虽然制程还不行，但是也达到了当年ASML的技术水平。 长久以来，美国、荷兰以及台积电方面都笃定，仅靠一个国家之力决然无法攻克光刻机难关。然而，中国却以实际行动打破了这一固有认知。光刻机的研发制造虽极具挑战性，但也并非如外界所夸大的那般遥不可及。 从 14 纳米制程起步，芯片制造工艺的数字演进在一定程度上被视作一种竞争策略。尽管 220 纳米制程相较于先进水平较为落后，可这无疑是意义非凡的开端。需明确的是，光刻机精度与芯片成品精度并非同一概念，220 纳米制程的光刻机已具备制造 24 纳米芯片的潜力。荷兰 ASML 公司当前最先进的光刻机达 13.5 纳米，可用于生产 2 纳米芯片。 中国作为世界上唯一能够独立实现全产业链芯片生产的国家，目前已突破至 7 纳米制程工艺，尽管与顶尖水平尚存差距，但这一巨大进步已彰显出强大的发展潜力。西方低估中国的制造能力，很大程度上源于对中国国情缺乏深入了解。中国人口数量约为整个西方的 1.4 倍，理工科毕业生数量与西方大体相当，且国民平均智商达 105，高于西方平均值 100。 凭借优越的社会制度与共产党的英明领导，只要全体国民齐心协力，专注经济发展，不断提升综合国力，始终秉持尊重知识、珍视人才的理念，中国在科技领域实现对西方列强的全面赶超只是时间问题。未来，中国必将在科技创新的康庄大道上昂首阔步，书写更多辉煌篇章。