工信部官宣分辨率65nm,套刻精度8nm光刻机!很多人都说国产光刻机突破了,荷兰阿斯麦要哭晕在厕所。 问了下芯片从业的朋友,这次是不是进步?肯定是进步,以后产光刻机大概可以量产28nm工艺的芯片,在中低端芯片不再受西方的制约。 但是不是决定性突破?其实还差了好多步。可以谨慎乐观,但完全没必要到自嗨的地步!高端的14nm,7nm、甚至5nm芯片,突破没那么简单的。 从技术上看,分辨率65nm,通过套刻,也就是多重曝光的技术。我们可以实现7nm、甚至5nm芯片的效果。我觉得华为麒麟9000s、9010芯片就是这么实现的!但多重曝光的技术条件可能比较苛刻,商业化的成本也高,所以量产有瓶颈。 但对我们来说,0到1突破了这是最关键的!一旦我们有了,那离最先进不过是时间问题。国产替代还需继续努力,加油干吧!
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