信息量挺大，光刻机、上海微电子、华为！ 根据权威信息，上海微电子正致力于研发28纳米浸没式光刻机，预计在2023年年底将国产第一台SSA/800-10W光刻机设备交付市场。而此前华为的一项最新专利，在极紫外光刻机核心技术上取得突破性进展。看来吧，这场集举国之力进行的芯片决战，远比想象中要顺利，可以说是前方捷报频传，并且已经取得很可喜的阶段性成果，离最终彻底摆脱“卡脖子”的大决战也不远了，狠狠地打了某些院士、买办的脸。 最后小编大胆预测下，上海微电子做出的应该是28nm极紫外光刻机，然后利用多重曝光最终达到14nm，华为再利用自身的堆栈技术实现7纳米级别的手机芯片，彻底解决手机芯片受控的局面，大家认为呢？
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