武汉光电研究中心打破光束极限，推出9纳米超分辨光刻机！是芯片制造的革命性突破！ 武汉光电国家研究中心的甘棕松团队搞出了一款9纳米工艺光刻机！全称是第六代双光束激光9纳米超分辨前道投影光刻机。简单点说，又是一个领先全球的创举！ 这款光刻机不同于阿斯麦的EUV和日本的纳米压印光刻机，是我们国家自主研发的，拥有完全的自主知识产权。听说用它刻出来的芯片最小只有9纳米宽，这么细，能不能刻出蚂蚁眼都不一定啊！ 当然，这款光刻机还有它独特的优点，它可以用数千瓦至一万瓦的532纳米绿光激光器套刻进行9纳米芯片光刻，光源功率大，光刻曝光面积大幅增加，分辨率也更高，能够大大提高产量。不过，目前还存在一些问题，比如工艺流程较慢，性能不稳定，良率不高，这导致成本也相应增加。 但是，我们国家的科研人员一向是善于开拓创新的，这款9纳米超分辨光刻机的出现，不仅是我国在光刻机领域的最大进步，更代表着我们国家在科技创新上不断迈向更高水平的步伐。 相信在科研人员的不懈努力下，这个领域将不断取得新的突破和进展，为我们的科技事业注入不竭动力！
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