中国专家坦言:中国芯片与美国的差距明显,不要盲目吹捧中国技术

谈数码过千里 2025-03-07 17:03:19
前沿导读

据国内权威媒体引用海外媒体的数据报告显示,2018年至2023年间,在全球发表的芯片设计和制造相关的论文中,中国研究人员的论文数量远超其他国家,其数量占比为34%。而美国与欧洲的论文数量占比,分别为15%和18%。

在芯片技术的高质量论文领域,有50%的论文是来自于中国机构的学者所发布,来自于美国学者的论文数量占比只有22%,欧洲是17%。并且在全球芯片研究论文产出的前十名机构中,9家为中国机构。

国际论文

在芯片产业的国际论文当中,来自于中国机构的论文数量具有明显的压倒性优势。中科院在2018年至2023年期间,一共发表了14387篇相关的技术论文,在数量上面位居榜首。

由于近几年中国机构在芯片产业的国际论文上面异军突起,引起了海内外多个产业机构的关注重视。有海外的分析师对此进行分析称,中国机构的芯片产业论文虽然并不能直接表示中国在芯片技术领域处于优势地位,但是其展示了中国芯片技术在未来的发展趋势,呈现出逐步攀升的情况。

也有许多国内芯片行业的专家学者对此进行了评价,中国芯片产业在学术报告上面有了大幅度的进步,而且在芯片设计、芯片制造等多个环节有了技术突破,市场份额也在逐步增加,这些都是值得高兴的事情。

但是我国在高端芯片的设计与制造环节,与美国企业还存在着非常明显的差距,切不可因为一点技术突破,就开始盲目吹捧甚至是捧杀中国芯片技术。

美国是芯片产业的发源地,晶体管与集成电路的发明,都是出现在美国的实验室当中。在基础的技术理论体系当中,美国具有显著的先发优势,其次是日本企业与韩国企业。

在国际论文当中,中国机构在芯片材料学以及AI芯片技术领域发表的论文被引用次数较高,而在基础的理论体系以及先进的制造工艺等方面,存在一定程度的不足。

以清华大学、浙江大学等高校为核心的科研团队,在类脑计算、存算一体架构等技术领域发表过多篇顶级的国际论文,这些论文被发表在了ISCA、MICRO等国际机构当中。

根据相关机构的调查报告显示,虽然中国在芯片技术领域发布的论文数量多,但是被引用的论文体系占比还有待提高。中国高被引论文(Top 1%)占比约12%,低于美国的25%,但是高于德国的6%以及日本的4%。

在顶级期刊《Nature Electronics》与《IEEE Transactions on Electron Devices》中,中国学者发表论文的数量占比分别为15%和22%,均低于美国的35%和30%。

尽管与美国有差距,但是中国在美国的制裁之下依然保持着各领域高速发展的趋势,并且这个逆势增长的趋势将会在未来持续给中国企业贡献强大的发展力量。

国产芯片技术

尽管中国芯片企业在近几年的发展当中,展现出了惊人的意志力以及快速迭代的技术发展,但是在先进芯片技术领域,由于美国制裁的影响,很大程度拖慢了中国企业突破技术封锁的速度。

再加上有部分中国网友盲目的吹捧国产技术,给相关企业造成了极大的社会舆论压力,在一定程度上也影响了中国企业进行技术攻坚的效率。

长江存储的董事长陈南翔曾经在访谈中公开表示过,国内的部分自媒体过于吹捧其公司的技术产品,这在舆论层面给了长江存储一定的压力。如果企业无法开发出先进的技术产品,那么这会在社会舆论层面透支大众对于长江存储的信任程度,甚至还有可能会引起大众对于企业技术的质疑。

尤其是在美国对海外企业施压,禁止其向中国企业供应光刻机、刻蚀机等先进芯片制造的必要设备之后,以光刻机为核心的话题热度居高不下,而国内负责提供国产光刻机产品的上海微电子公司,自然而然的成为了大众重点关注的企业。

一时之间,关于国产光刻机的消息满天乱飞。迫于社会舆论的压力,上海微电子在国内的搜索平台当中,下架了自家的官网信息。而上海微电子公司的官方网站,最新消息也停留在了2021年。

美国在光刻机产品上面的重重施压,基本上切断了中国企业获取EUV光刻机的所有机会。在没有EUV光刻机的前提下,中国企业发展先进芯片举步维艰。

但是以中芯国际为首的中国芯片企业,通过曾经从ASML采购的DUV光刻机,再加上华为公司开创的自对准多重图案化技术,成功制造出了7nm工艺的芯片产品。尽管这种国产的7nm芯片在能效与产能上面,与EUV技术的7nm芯片差距甚远,但是中国企业在美国的重重制裁下,已经完成了一个相当难的技术突破。

如果跟国际企业相比,那么中国大陆的芯片企业技术,相当于2019年的台积电。甚至在技术开发上面,中国企业已经是仅次于台积电的存在,要领先于三星一点。

虽然我们已经成功的突破了7nm芯片的量产,但是在没有EUV设备的前提下继续推进工艺发展,唯一的技术方案就是采用多重曝光和自对准四重图案化技术,并且刻蚀机、薄膜沉积设备都是需要考虑的因素。

有科技产业的观察者对此表示,国内半导体产业仍被EUV光刻机卡脖子,7nm以下先进芯片我们还未彻底攻克。国内在论文上取得的进步值得肯定,关键还是要真正转化成商业化芯片和应用。没有商业落地和生态支撑的论文领先,更像空中楼阁,还是要警惕捧杀,更加重视核心技术攻坚。

尽管中国企业在先进芯片上面已经有了发展前进的动力,但是在大面积量产上面距国际主流水平还有多年的差距,并且在存储器芯片和芯片制造设备上面,还存在着很大的发展空间,过度吹捧以至于捧杀中国芯片技术是完全不可取的方法。

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