一般来说，一台光刻机有一个很重要的指标叫WPH，即一小时单位产能，表示一小时内能够处理多少片晶圆。目前比较先进的DUV光刻机已经能做到200+，也就是一小时处理200片以上。但是，光刻机并不是唯一的设备，一般在晶圆厂里面，光刻机其实也就10余台左右，并且是高低搭配。除了最下面的晶体管层需要最先进的光刻机之外，上面做铜互连无需最先进的光刻机。而且，每片晶圆要经过多次光刻过程，才能完成一个芯片。例如，28nm工艺的芯片大概要经过13-15次光刻。所以，28nm工艺的芯片一天大概能生产几千片左右。

对于更高端的EUV光刻机来说，情况就更复杂了。EUV光刻机是目前唯一能够制造5nm以下工艺的芯片的设备，但是它的成本和难度也非常高。EUV光刻机每小时处理晶圆数不低于125片（125 wph），在实验室中可达140片。但是，在实际应用中，并不是每一片晶圆都能成功制造出芯片，还要考虑到良率、故障、维护等因素。而且，EUV光刻机也需要与其他设备配合使用，并且每片晶圆也要经过多次光刻过程。因此，EUV光刻机一天能生产的芯片数量可能只有一千片或者更少。

一台光刻机一天能量产出多少芯片，取决于多种因素，但是可以肯定的是，随着芯片技术不断进步，对于高性能、低功耗、小尺寸的芯片需求越来越大，而这些芯片都需要更先进、更精密、更昂贵的光刻机来制造。因此，提高光刻机的性能和产能是半导体行业面临的重大挑战和机遇。