光刻胶是芯片制造中不可或缺的关键材料，它决定了芯片的性能和品质。然而，全球光刻胶市场长期被日本和美国的几家企业垄断，中国在这一领域仍处于落后和依赖的状态。如果日本对中国断供光刻胶，中国的芯片产业将面临巨大的挑战和危机。

据悉，日本在光刻胶领域拥有绝对的技术优势和市场份额，其四大企业东京应化、JSR、住友化学和富士胶片占据了全球光刻胶市场72%的份额，美国的陶氏化学占据了15%的份额。而中国在10纳米以下的高端光刻胶方面，几乎完全依赖于进口。

这意味着，如果日本对中国实施光刻胶禁运，中国的芯片制造将受到严重影响。事实上，日本已经在2019年对韩国采取了这样的措施，导致韩国三星等芯片企业的良率大幅下降。而在中美贸易摩擦和科技竞争的背景下，日本是否会对中国采取同样的手段，也引发了外界的担忧。面对日本的光刻胶垄断和威胁，中国并没有坐以待毙，而是积极推动光刻胶国产化进程。目前，中国已经在低端和中端的光刻胶方面取得了一定的突破，比如南大光电、苏州瑞红、北京科华、容大感光、上海新阳等企业，在K胶、A胶等方面已经实现了量产或试产。

更值得关注的是，中国在高端光刻胶方面也有了重大进展。2020年12月底，南大光电成功研发出我国自主开发的第一款ArF干法光刻胶，并通过客户验证。这款光刻胶可以用于7纳米以下制程的芯片制造，填补了我国在该领域的空白。据了解，南大光电是我国唯一一家拥有高端光刻机设备（ASML二手设备）和高端光刻胶配方技术（与台湾合作）的企业。这为其在高端光刻胶领域取得突破提供了有利条件。同时，南大光电还与中芯国际、长江存储等下游客户建立了良好的合作关系，并获得了政府和社会各界的支持和资助。

综上所述，虽然日本在光刻胶领域仍然占据着绝对优势和垄断地位，但中国也没有放弃努力，而是在政府、企业和高校的共同推动下，实现了光刻胶国产化的重要进展。尤其是在高端光刻胶方面，南大光电的突破为中国的芯片产业提供了新的希望和动力。相信在不久的将来，中国将能够摆脱对日本光刻胶的依赖，实现自主可控。