ASML正在努力开发下一代High-NA EUV光刻机，具体型号为EXE:5000。这台光刻机将采用高数值孔径系统打造，孔径数提升到了0.55，是生产2nm及以下芯片的关键设备。

目前这台光刻机已经被英特尔、台积电、三星预订了。那么ASML新一代的High-NA EUV光刻机有何进展呢？

若High-NA EUV光刻机成功量产，旧款EUV光刻机能被安排自由出货吗？

总部位于荷兰的ASML，是全球最大的光刻机制造商。这家公司掌握EUV光刻机的制造量产能力，但是在这背后，其实离不开英特尔等美企成立的EUV联盟支持。

EUV联盟，顾名思义就是专门研制EUV极紫外光源技术的组织。虽然EUV联盟有不少美企，但满足EUV光刻机生产条件的企业并不多。

最终EUV联盟挑选了一家企业作为扶持对象，全力支持对方完成EUV光刻机的量产，而ASML被成功选中。但也因此ASML需要受到西方国家技术的制约，能不能向外界自由出货EUV光刻机，需要获得EUV联盟的许可。

ASML在没有拿到EUV光刻机自由出货许可的情况下，只能靠销售DUV和其它型号的光刻机，维持在大陆的业务。

除此之外，ASML还在尽力研发新一代的High-NA EUV光刻机。一方面是为了跟随芯片制造商的脚步，在未来的2nm芯片时代可以继续保持领先优势。另一方面不排除为争取旧款EUV光刻机自由出货的可能性。

总之ASML不会停止对新一代High-NA EUV光刻机的研发，反而会加快进程。

在ASML 7月20日发布的财报公告中显示，新一代的High-NA EUV光刻机核心三大件已经到货。分别包括物镜系统高 NA 机械投影光学器件，光源系统镜头以及新款的晶圆载物工作台。

物镜系统、光源、工作台是光刻机的三大件，而ASML新的EUV光刻机设备自然也会对应新的三大核心部件。

目前尚不明确ASML新的三大件来自哪些供应商，但可以知道的是，随着核心三大件的到货，剩余的研制任务就简单多了。

只需要按部就班进行测试，很快就能在2023年发布High-NA EUV光刻机的原型机。然后到2024年量产，2025年大批量出货，并且在这之后成为ASML新的旗舰主力。在未来5到10年内，High-NA EUV光刻机将带领人类芯片工艺走上新的高度。

ASML传来High-NA EUV光刻机的新消息，核心三大件已经到货，说明进展良好。那么High-NA EUV光刻机量产成功之后，旧款的EUV光刻机能被安排自由出货吗？

很多人都期待ASML能将EUV光刻机发往大陆，给大陆芯片制造商提供支持。但了解的人都知道，美国一直在干涉ASML自由出货EUV光刻机的状态。时至今日，ASML也没有拿到自由出货EUV光刻机的许可。

这并非ASML的意愿，毕竟中国大陆这么大的市场，ASML自然是希望布局越大越好。就像今年第一季度，ASML向大陆交付了23台光刻机，超过了其它市场地区的出货量。由此可见，ASML对大陆市场重视程度非常高。

由于EUV光刻机不能出货的缘故，所以ASML向大陆交付的光刻机都是DUV光刻机及其它型号的设备。

DUV光刻机落后EUV光刻机一代工艺水平，因为有人认为，只要不是最先进的设备，就有希望实现自由出货。基于这样的理念，那ASML将来实现High-NA EUV光刻机量产后，旧款的EUV光刻机的自由出货岂不是能排上日程了？

只能说该摒弃幻想了。如果真是按照落后设备就能出货的原则，那美国后续也不会要求荷兰也要限制DUV光刻机自由出货了。

据悉，美国正要求荷兰将DUV光刻机也列入不允许自由出货的名单。这一举动说明旧款设备能出货的理论并不完全准确。目前荷兰还没有对改变DUV光刻机自由出货状态做出回应，暂时来看ASML依然能将DUV光刻机顺利交付给任何一家客户。

ASML未来几年内会实现High-NA EUV光刻机的量产，英特尔、台积电、三星已经官宣成为High-NA EUV光刻机的客户。

虽然很多人都希望ASML旧款EUV光刻机能因此被安排自由出货，但未来的事情谁也无法预料，与其希望对方如何行事，不如自己努力前行，把握好核心技术的研发，走适合自己的路。

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