近些年来，半导体设备一直是美方遏华的主要手段之一，基于美资本主义在半导体领域的主导地位，多次向中企实施断供、限制措施，硬生生将中方自产芯片的水平遏制在14nm制程。

如今美方更是拉拢日、荷向大陆断供，试图执行更苛刻的限制，可荷兰选择“变脸”，不愿意放弃中国市场，外媒评论道：光刻机问题再次反转！

光刻机是半导体制造过程中不可或缺的一环，它可以将设计好的电路图案投射到硅片上，是制造芯片的关键设备之一。

由于光刻机技术的复杂性和高昂的成本，底蕴不够深厚的企业难以踏足，全球光刻机市场一直以来都是ASML、尼康、佳能、东京电子几家垄断企业所占据。

在这样一个市场环境下，一旦出现任何一家企业的光刻机出现问题，都会对全球半导体产业造成极大的冲击。

早在2018年的时候，美资本主义就以EUV LCC联盟主导地位，要求ASML向大陆断供EUV光刻机，这也导致了中方无法踏足先进制程芯片。

后来又以一些特殊的操作，限制了中方购买14nm制程生态设备，导致就连中芯国际也无法补给14nm制程光刻机、刻蚀机等产品。

随着物理寿命损耗，中芯国际的14nm制程芯片产能逐渐下滑，直到不久前，该企业不得不下线14nm制程订单。

不过更重要的还是2023年年初出现的新规，美日荷三方联合针对大陆断供DUV光刻机，其中主要涉及企业就是泛林、ASML、尼康、东京电子等企业。

而日方最早落地协议，断供了包括激光切割机、离子注入设备、特种玻璃制造设备、离子束刻蚀设备、纳米微米加工设备、超纯水制造设备、金属薄膜制造设备等六大类23种设备。

反观荷方，虽说迫于美方的压力，但ASML一直都不太愿意放弃中国市场，曾选择将包括1980Di型号ArF浸润式光刻机在内的不少旧款设备拉出协议，继续向大陆供应。

并且至今为止，美、荷双方依旧没有官宣协议落地，可见泛林和ASML都不愿意真正向中国市场断供。

就在这一直没有落地的时间里，荷兰、ASML开始“变脸”了，先是ASML总裁访华，与中国高层建立深度合作态度，后脚荷兰又邀请中国高层访荷。

当然，面对荷兰的示好，中方也没有选择拒绝，派遣高层人员前往荷兰访问，建立起更加深厚的合作态度。

这一消息意味着，中国的芯片制造业在未来将能够更加顺畅地推进，这次光刻机问题的历史反转，也再次凸显了全球半导体产业的紧密联系和相互依存。

在全球范围内，尤其是在中美贸易战的背景下，各国半导体产业的合作和交流显得更加重要。只有通过合作，才能够共同推进半导体技术的发展，实现全球产业链的优化和升级。

值得一提的是除了荷兰之外，巴西总统访华的结果也带来了不少好处，不顾美资本主义的反对，卢拉向华为下达了一份价值1500亿美元（折合超过万亿人民币）的5G通讯订单。

很明显，建立于美方的负面处境，荷兰、巴西双方已经开始“反抗霸权”，做出了自己的选择。

未来，随着5G、人工智能等新兴技术的快速发展，半导体产业的前景更加广阔。光刻机作为半导体制造的重要环节，将继续扮演着不可替代的角色。

而ASML、荷兰、巴西等势力选择中方，也将为中国芯片制造业注入新的动力，有望推动中国芯片产业迎来新的发展机遇。那么大家对此怎么看？欢迎评论区留言！