2019年，日本政府宣布加强包括光刻胶在内的三种关键材料的出口管制，而韩国则直接被其踢出“白名单”，这一行为立即对韩国半导体行业造成了严重的影响。

韩国多个半导体产业不仅面临停产，日亏损都高达上万亿，一直到2023年日本重新开放，韩国这才喘了口气。

日本的出口管制之所以“要命”，是因为那小小的光刻胶，不起眼却极为重要，而日本在光刻胶领域还占据了九成的市场，一旦日本拒绝供应，那必然是半导体领域的一场无形的风暴。

身为美国的盟友，日本随时都有可能将矛头对准我们，那我们遇到类似情况，怎样才能有效破局呢？

光刻胶的规模极小

其实，光刻胶在整个半导体市场中的规模非常小，根据统计数据显示，光刻胶市场规模占比不足整个半导体市场规模的1%。

然而，就是这不足1%的光刻胶，却是整个半导体产业不可或缺的关键一环，没有光刻胶，整个芯片生产都要受到影响。

光刻胶在芯片制造中承担着什么作用呢？

芯片制造过程中，光刻胶会被涂在硅片表面，通过掩膜版曝光之后，光刻胶将在特定区域发生化学变化，这留下来的光刻胶就被“蚀刻”在硅片上，从而成为了芯片制造的核心材料之一。

而根据光刻技术的进步，光刻胶目前也呈现多样化，曝光波长不同，所需的光刻胶也不一样。

和光刻机一样，目前EUV光刻胶成为了该市场最先进的技术，在过去全球贸易正常的情况下，光刻胶的供应向来稳定。

然而我们不得不面对有可能到来的风险。在全球光刻机市场中，美国和日本占据了绝对的主导地位。

美国在上世纪五十年代的时候，就有公司开发出了光刻胶，美国随即成为了该领域的佼佼者。

之后长达十几年的时间中，美国都占据着垄断地位，但在美国发展的同时，日本半导体也逐渐起步。

说来也有趣，日本半导体的崛起引起了美国的关注，他们想方设法对日本进行打压，最终硬生生将日本半导体压在了一个限度之内。

不过美国的限制还漏了个光刻胶，这个东西由于占据的规模极少，所以美国并没有重视，结果日本还真的抓住了这个漏洞，将光刻胶做大做强，再创了日本半导体的辉煌。

1995年，日本企业研发出的光刻胶实现了商业化之后，成功打破美国长期以来的垄断，而2011年日本研发出的EUV光刻胶，让日本直接在该领域登顶。

一直到现在，10nm以下制程的光刻胶，只有日本企业能够生产。

日本在光刻胶领域的市场占有率也是非常可怕的，在全球市场中，日本企业占据了70%到90%份额，而高端光刻胶市场，日本企业更是占据了超过90%。

近乎垄断式的市场占有率，也成为了日本毫无忌惮使用的“武器”之一，在愈加不稳定的市场上，日本首先将枪口对准了韩国。

正在逼近的风险

韩国是芯片制造大国，2019年遭到日本针对的时候，他们在光刻胶领域对日本的依赖度高达80%，日本一个管制，使得韩国所用的光刻胶材料纯度不够，芯片良率甚至只有10%到20%左右。

在危急时刻，韩国在全球大范围寻找替代，但都未能达到理想状态，无奈之下，韩国宣布将自己研发光刻胶。

韩国政府牵头，直接投入上万亿预算，半导体企业加快研发，到2022年底，韩国宣布，他们将自研光刻胶成功应用于生产线。

眼看韩国成功突围，2023年初，日本便将又重新将韩国拉回“白名单”，双方在半导体领域的合作又回到了往前。

日韩的这一出给我们也上了深刻的一课，美国近年来一直在半导体领域打压中国，这光刻胶虽然占据规模小，不是美国主要打压的领域，但我们也不能忽视这种风险。

果然，在2022年，美国便出台一项管制，禁止向中国出口相关中间材料，其中就包括光刻胶。

但美国的光刻胶并非不可替代，并且我国也已经在逐步实现突破，所以美国的禁令只能说禁锢了自家企业的发展而已。

而日本这边，虽然在2023年7月迫于压力实施了新的出口管制，但由于中国市场是其重要布局点，市场规模已经达到了全球光刻胶总销售额的五分之一，日本只是加强了对光刻胶的管控，并未针对中国进行大范围的出口管制。

不过对于我国来说，虽然有自己的光刻胶产业，但在中低端市场也只占据10%的国产化率，中高端的国产化率甚至不足2%。

因此，我们不得不严重依赖进口，然而，光刻胶的特殊性质又注定它不能被长时间保存，六个月已经是极限，我们既然不能通过大量囤货来解决，那遇到类似问题又当如何呢？

我国在光刻胶领域已经小有突破

其实，我们从十几年前就已经开始布局应对这个问题了。

早在2011到2015年间，我国就给予国产光刻胶研发和产业化以大力支持，要减少对光刻胶的依赖。

随后，相关企业立即响应，比如说北京科华微电子，此前的大量投入几乎烧了个精光，正当困难之际，国家出手给予强力扶持，结果三年就建立起了第一条KrF光刻胶生产线。

到2017年，科华微电子在KrF光刻胶上缓慢实现了进口替代，现在，其生产的光刻胶已经和国内诸多半导体企业达成了合作，下一步就是研发突破先进制程的光刻胶。

南大光电也是推动国产光刻胶发展的强有力的企业，近几年，南大光电实现了国产ArF光刻胶的产品验证和技术突破。

目前，南大光电已经有产品在市场上实现销售，相信光刻胶的规模量产也近在咫尺。

此前一直绊住我国的EUV光刻胶，现在也有了消息，我们的高校研究团队成功攻克相关难题，为之后EUV光刻胶的突破提供了强有力的技术支持。

结语

我国光刻胶虽然已经有了些许结果，但在更先进的光刻胶技术上，我们要走的路还很长。

不过，有问题我们就去解决，有困难我们就去突破，在国家的领导下，相信会有越来越多的企业和人才加入科技赛道，共同打破国外垄断，推动中国半导体行业继续向前！