半导体生产是一个很复杂的过程，不仅工艺和技术相当复杂，而且使用到的有机溶剂等非常多，因此这类废水是非常难处理的。

①重金属污染：在半导体制造过程中使用的各种蚀刻液和清洗剂通常含有铜、锌、镉、铅、锡、镍等重金属。

②有机化合物：溶剂（如异丙醇、丙酮等）、光阻剂以及其他有机添加物在生产中会被排放进废水。

③酸碱物质：在晶圆的生产和清洗过程中会使用大量的酸性（如硫酸、盐酸、硝酸）和碱性（如氢氧化钠和氢氧化钾）化学品。

④悬浮固体：硅片切割时会产生硅屑，其他固体残留物也可能会出现在废水中。

⑤含氨废水：在显影、清洗、湿法刻蚀等过程中会排放出大量的含氨废水。

喜欢的话，点赞，关注，收藏。漓源环保会分享更多的废水处理案例和知识。

①化学沉淀法和氧化还原法是化学法的类型之一，它们应用在半导体工业废水的治理比较多。

化学沉淀法操作简单且价格便宜，主要是用于去除废水内的重金属污染物，有中和沉淀法、铁氧体沉淀法、硫化物沉淀法等。该方法的使用是通过投入的化学药剂和重金属离子反应，将重金属离子转化为难溶的沉淀物质，这些沉淀物再通过过滤或沉淀的方法进行分离，进而达到去除的目的。

②物理法有蒸发结晶法和膜分离法，是将半导体工业废水做到回用的重要废水处理方法。

膜分离法是具有分离效率高，无二次污染，操作简便，占地面积小等特点，因此在半导体工业废水的处理上具有很强的技术优势，也是目前“中水回用系统”的主要废水处理方法。该处理方法有反渗透法、超滤法、电渗析等方法，其中反渗透是利用反渗透的原理，在工业废水的部分施加较高的压力，使作为溶剂的水分子透过半透膜，使水与重金属及其他溶质分离。

③生物法是有厌氧生物和好氧生物，主要是去除废水内的有机物，也可以设计出可脱氮除磷的处理工艺，去除废水内的氨氮和磷。目前可去除重金属的生物法，例如生物吸附法、生物絮凝法、植物修复法以及生物化学法。

生物法是具有简便实用，过程控制简单，污泥量少，二次污染少，效益高等特点的方法，其中厌氧生物处理是高浓度有机废水的常用处理方法，它是在无需提供氧的情况下，利用厌氧微生物的代谢过程，把有机物转化为包括大量的生物气（即沼气）和少量的细胞物质处理，过程分为了水解阶段、酸化阶段、产乙酸阶段和产甲烷阶段。

处理半导体工业废水并不是一个简单的过程，我们需要通过多种废水处理方法结合（分质分流），设计处理一个废水处理系统，然后将其做到废水稳定达到所需要的标准。