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ASML慌了近年来，伴随着半导体行业科技水平的突飞猛进，光刻机逐渐成为生产各类高性能芯片的核心工具之一。然而，由于该行业存在着极高的技术门槛以及专利壁垒重重，全球范围内的先进光刻机市场长期以来一直由荷兰的ASML公司独占鳌头。
自2023年初以来，面对来自美国政府的压力和合作伙伴日本及荷兰的限制，ASML公司的垄断态势开始受到严峻挑战。
在这样的时代背景之下，荷兰ASML公司有可能被迫暂时性停止向客户提供已出售光刻机的后续维修保养服务。
值得注意的是，我国早已从ASML公司购入了约1000台高端光刻机，如果ASML决定中断相关服务，势必会导致我国引进的这批光刻机在使用过程中出现问题时得不到有效解决，从而沦为无用的废品。
令人欣慰的是，在此紧要关头，日本佳能公司却突然宣布成功研发出了EUV光刻机的替代解决方案，这无疑是一个重大的技术突破。对此，ASML公司感到了前所未有的压力，中国也迎来了难得的历史契机。
就在这一特殊时刻，日本佳能公司宣告其成功研发出EUV光刻机替代解决方案的消息，在全球半导体产业界引起了广泛关注。佳能公司此次取得的技术突破有望打破ASML在高端光刻机领域的垄断地位，并为全球半导体产业的未来发展带来新的机遇与挑战。
光刻机的作用光刻机作为一种尖端设备，主要应用于各类微型芯片的精密制作之中，其至关重要的职责便是通过光束投射的方式，将预先设计好的芯片图案精确地复制并转移至相应的硅晶圆表面上。
整个光刻工艺流程精密复杂，包括前期筹备所需之掩膜材料与晶圆片得进行合理的规划以及后续步骤中的曝光、显影、蚀刻及最终的清洗等环节。
光刻机的精准度与稳定性能堪称芯片制作过程中的灵魂所在，为此，现代光刻机均采用了高度集成的光学系统与自控系统，以此确保每一片芯片生产出来的质量及其稳定性都能得到充分保证。显而易见，光刻机在芯片制造过程中扮演着举足轻重的角色，已然成为当今电子信息产业不可或缺的现代化设备之一。
尽管看着光刻机的运作原理似乎颇为浅显易懂，但要真正实现起来却并非易事。举例来说，就连最尖端的极紫外线（EUV）光刻机，其所需的零部件数量竟然多达惊人的10万余件，这其中涉及到的国内外供应商更是遍布全球各地，近五千家以上。更为令人瞩目的是，全球范围内在该领域拥有卓越实力的阿斯麦尔公司仅占全部技术与零部件来源的90%以上，其中约四分之三左右来自全球高达逾二十个不同的国家。
值得注意的是，在当前错综复杂的国际环境尤其是中美科技竞争的大背景之下，阿斯麦尔公司的自主运营权限已被美国方面重设。
早在美日荷三国签署的相关协议生效后，该公司曾一度受到限制约束，以至于有些影响到了其中等及低端的深紫外（DUV）光刻机产品线。不过幸亏一些美国企业及时出面调解，荷兰政府对此做出响应，决定将对阿斯麦尔的禁令缓冲期延长至2024年1月1日。
众所周知，我国现阶段半导体市场对于各种设备的需求量巨大，需进口的相关设备比例相当高。在此背景下，阿斯麦尔公司频繁公开表态大力支持在华业务，无疑是瞄准了这块巨大的市场蛋糕。
遗憾的是，韩国企业的反复无常行为最终适得其反，导致自身被剥夺了永久性豁免权。如今，中国企业对此已高度警惕，加快了寻求自主化解决方案的步伐。在此情况下，美国企图推行“芯片倾销”政策的阴谋显得并不现实。
研发最新技术来替代EUV光刻机。自1996年七月份以来，在美国秘密策划之下，策动西方33个国家签署了《瓦森纳协定》。这份协议的首要任务是制定并实施全面的新型管制措施以及信息交换规定，这些措施涵盖常规武器、两用物品以及各类技术出口等相关领域，其目的在于制约和抵制东方诸国科技产业的发展势头。
荷兰，作为代表西方阵营的重要成员，自然亦在这33个签约国家之列。根据该协定，各缔约方必须严格执行所有条款，因此荷兰公司阿斯麦的出口自由受到严重限制，尤其涉及EUV光刻机的销售，更被明确禁止向中国进行销售。而这一行为也使得我国科技产业长期深陷被技术封锁与垄断的困境。
是的，您所听到的并非虚言，实际上很早以前，美国就在各种方面试图限制我们的发展。自从近些年来，我们频繁听到有关中芯国际如何遭到美国限制以及华为这家私人企业如何遭受美国打压的消息。
然而，早在多年以前，中美两国间的科技大战便已悄然拉开序幕，只是由于那段时间民众的整体认知程度相对较低，加之此事并未得到充分披露，故许多人都对此一无所知。
如今，随着国民知识水平的提高，越来越多人知晓整件事情的原委，并深感美国这种行为的卑劣。特别是当中芯国际与华为成为美国瞄准的目标时，更是引发了全体国民的极大愤慨和反对声音。
尽管形势严峻，但好消息是，EUV光刻机在经过长期的全球垄断后，终于迎来了转折点。多个国家纷纷意识到独立研发的必要性，他们再也无法忍受在美国阴影之下的生存方式，更为无法接受因美国的限制而导致各国科技产业裹足不前。
各国纷纷投入新技术研究开发工作，力图实现技术超越以取代现有的EUV光刻机，从而全方位摆脱对于美国技术的过度依赖。
这显然是阿斯麦公司所始料不及的，同样也是美国人万万没有预想到的结果。甚至于美国自身的本土企业，亦在积极探索最先进的技术以替代现有EUV光刻机。
纳米压印现阶段，沉浸式光刻机的研发与制造领域中，全球范围内仅有尼康与阿斯麦尔（ASML）具备强大竞争力。
其中，EUV光刻机的唯一供应商，亦为阿斯麦尔。值得注意的是，尼康及佳能两大光刻机制造商所交付的产品主要服务于成熟制程芯片的生产环节，然而他们在全球市场所占据比例共计仅仅约为10%；相比之下，阿斯麦尔凭借其卓越表现，独占鳌头，占据了全球市场份额的高达90%，实可谓是垄断性的地位。
这份垄断源于阿斯麦尔对全球集成电路制造商的控制力度之大，如何突破这一瓶颈，采取其他方式以改变当前的市场格局，逐渐成为了业界共同关注的话题。就在今年的十月份，佳能公司对外宣布即将推出FPA-1200NZ2C纳米压印半导体制造设备。据悉，佳能公司旗下纳米压印光刻（Nano-Imprint Lithography，简称NIL）技术已成功实现最小线条宽度达14nm的图案化。
值得强调的是，这个数据与当今最为领先的逻辑半导体所需达到的5nm节点水平相当接近。此外，据相关报道称，随着掩模技术的持续改进，NIL技术甚至有希望实现在较短时间内实现最小线条宽度为10nm的电路图案设计，从而符合2nm节点的要求。
事实上，纳米压印（Nano Imprint）的概念最早由资深华裔科学家周郁（Stephen Chou）教授于1995年首次提出。根据可靠消息显示，纳米压印技术作为一种非常重要的微米/纳米级加工工艺，其核心原理是基于传统的机械模具微复型技术。
简而言之，相较于传统光刻设备需将电路图案直接投映至涂抹有抗蚀剂的晶圆之上，纳米压印技术则是使用具有预先雕刻好的电路图案德模版，透过物理压力使其印迹清晰地显现出来，并逐层叠加并固化于晶圆之上的抗蚀剂之中。
通过这种方式，以类似于印章盖章在橡皮泥表面之后产生的效果，再经由脱模处理即可得到一枚完整的芯片。可以毫不夸张的说，纳米压印技术的产业化进程对于突破现有芯片制造行业的垄断结构，具有举足轻重的现实意义。
日本半导体巨头尼康事实上，并不仅仅是我国的科技企业希望突破EUV光刻机的限制，ASML公司以及其竞争对手们在这方面也都已经付出了大量的努力和研究工作。
近期，日本著名的半导体制造商——尼康传来喜讯，他们所研发的基于纳米压印（NIL）技术的芯片制造设备，能够成功规避EUV光刻机的制约，进而得以生产出2纳米级别的芯片产品。
对比于EUV光刻机而言，NIL技术更像是一种“立体雕刻”或者“盖章打印”的过程，轻松地将电路图案直接印刷在晶圆表面。这种技术的优点十分显著，包括易于操作、制造成本相对较低等。
它同样存在着一些难以忽视的不足之处，那便是合格品产出比例相对较低。虽然现阶段该项技术仍然处于发展阶段，尚不完全完善，但是其问世无疑给了我们这样的启示——或许可以通过避开EUV光刻机来取得成功。
自2004年以来，佳能公司便开始投入到NUL技术的研发之中，至今已经拥有长达20年的研发积累。而其高层管理人员则坚定地认为，NIL有望在未来成为取代EUV成为新一代芯片制造领域的主导技术。
佳能已推出了FPA-1200NZ2C纳米压印光刻机新品，该机器具备等同于5纳米工艺的能力，而且随着未来进一步改进与升级，还有可能实现2纳米级芯片的生产。
尤其值得一提的是，目前诸如凯侠、SK海力士等多家知名芯片制造商已经开始广泛运用此项技术，只是由于受到严格的芯片出口管制规定的限制，佳能并未能将这款全新的NIL光刻机设备推广至我国市场销售。
传统光刻机会被替代吗？作为全球瞩目的半导体设备制造业巨头，荷兰阿斯麦（ASML）以其卓越的研发能力以及独特的市场地位闻名遐迩。
众多世界知名的大型半导体厂商，如业界领军企业英特尔公司、三星电子株式会社及中国台湾地区的半导体制造大厂台积电有限公司等，无不对阿斯麦出品的光刻机设备情有独钟，并与之建立起长期稳固的合作阵营。
这种特殊而紧密的合作伙伴关系不仅为阿斯麦赢得了极高的声誉，更为其在全球半导体设备领域奠定了坚实基础，扮演着不可或缺的角色。
近年来佳能纳米压印设备的日益崛起却令市场格局悄然生变，令人深感意外。面对这一突如其来的变化，外媒不由感叹：“ASML，你是否已经不再需要EUV光刻机？”
那么，未来EUV光刻机究竟能否遭遇取代？据理论推断，确实存在这样的可能。毕竟，无论采用何种方式进行芯片制作——光线曝光图案或者模具压制芯片，最终的效果都是相同的。正因如此，人们不禁要问，为何众多客户竟仍然对阿斯麦的光刻机情有独钟呢？纵使佳能的设备成本相对较低，能耗更小，操作起来更为便捷，假如佳能能够保证充足的产能，同时得到业内广大客户的认可与实践检验，或许半导体制造商们会争相选择与佳能展开业务往来。
