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阿斯麦自提及阿斯麦以来，这家企业在光刻机科技领域无庸置疑地占据着主导和引领的地位，犹如领头雁，其卓越成就和非凡实力使之在全球半导体产业链中发挥着不可忽视的重要作用，其强大的技术优势足以令其在整个上游产业形成垄断格局。
如您所知，阿斯麦的顶尖光刻机被公认为“工业皇冠上的明珠”，充分彰显了巅峰级别的科技水平。
在此之前，阿斯麦的光刻机技术已经达到了目前为止3 nm的高度，广泛且高效地运用于5 nm芯片生产流程。近期，阿斯麦再一次凭借自身卓越的创新能力，震撼全球半导体产业界，突破了长期以来的技术瓶颈。
历经长达十年的锲而不舍研发历程之后，现在，阿斯麦已经成功推出了一款售价高达三亿多美元的2 nm极紫外光刻机设备。此款全球首发的2nm光刻机，将会率先交付给位于美国的英特尔公司使用。
根据路透社的相关新闻报道，英特尔对于此款光刻机的渴望已经有很长时间，他们坚信该设备必将帮助美国得以制造出更为精细，性能更佳并且运行速度更快的芯片产品。
自中美的科技贸易战争以来，虽然美国对华实施了一系列的半导体产业制裁，但这些针对行动并没有达到预期的效果。华为公司不仅在高端芯片技术方面有所突破，同时也实现了百分之百的国产化生产，这无疑给美国造成了相当大的影响和冲击。
首套High-NA EUV光刻机从荷兰Veldhoven装车发货12月21日，位于荷兰的全球领先的光刻机制造商ASML公司在其官方社交媒体账号上宣布了一项重要消息：他们的首台 High-NA EUV光刻机已从其位于瓦尔德霍芬的总部启程发货，此行的目的地正是英特尔的工厂。
ASML在发布的声明中表示喜悦与自豪地欢迎这一里程碑式的时刻——为英特尔带来其首个、也是全球唯一的高数值孔径EUV系统。自2017年ASML首批商用EUV光刻机正式问世以来，举世瞩目的三星7nm、5nm以及3nm制程的量产，还有无往不利的台积电第二代7nm、5nm和3nm技术的大规模生产，都是仰赖于那款具有0.33数值孔径(NA)的EUV光刻机。这款光刻机所拥有的最高分辨率已经达到了8nm。
时至今日，随着三星、台积电和英特尔三大家伙纷纷进入3nm制程领域，各家企业均投入大量资源研发2nm以及更为高级别的埃米级制程技术，以期应对未来对高端芯片日益增长的需求，以便在激烈的晶圆代工市场竞争中立于不败之地。
对于那些更小单位的单元，比如2nm及以下的精密制造，恐怕需要依赖ASML最新一代的0.55数值孔径(High-NA) EUV光刻机EXE:5000系列才能实现。
对比起之前仅有0.33 NA的EUV光刻机，新型的0.55 NA透镜赋能的High-NA EUV光刻机的分辨率可以超过8纳米，并且整部设备的体积也明显增加。
为了搬运这样庞大的设备，ASML不得不将各种关键组件打包在250个单独的板条箱中运送，为了设备的安全和稳定，其中包括13个大型的集装箱。当所有部件都运抵目的地并完成组装之后，巨大无比的High-NA EUV光刻机甚至会比卡车还宽敞，其售价也极其惊人，高达3到4亿美元。
2nm光刻机的成本超过3亿美元根据可靠资料显示，这项刚刚研制成功并达到2纳米精度水平的高端光刻机，其投资成本远超3亿多美元。
对此，全球顶级微电子设备制造商ASML公开宣称，要想完成这款新型高数值孔径的极紫外线光刻机的组装工作，需要耗费十年时间，而且它的体积相当庞大，甚至超越了衡量标准的“卡车”级别，为了安全运输，必须将其拆分为250个独立的板条箱，以及包括13个大型集装箱在内的全部组成部分分批装运。
据ASML方面的预测，这种新型号光刻机预计会在 2026 年或 2027 年间正式投入商用芯片领域的生产，为我们的电子科技带来前所未有的改变与创新。
此外，据《界面新闻》近日相关报道，台湾著名媒体数字时报援引了三星官方移动网站 SamMobile 的信息透露，当前，ASML公司已经制定出在明年生产10台这种 2 纳米级别的光刻机的详细计划，然而英特尔已经提前下单采购了其中的6台机器。
可以预见，未来若干年内，ASML公司将会持续加大这类2纳米光刻机的产量和研发力度，以满足市场对高精尖芯片产品需求的不断增长。
值得一提的是，现如今英特尔所采用的最为先进的芯片技术，正是基于Gaudi3的5纳米工艺制程。特别值得提及的是，英特尔早在本月15日就在我国举行了盛大的发布会，再次展示其领先业界的技术实力，此次不仅推出了两款专为人工智能设计的全新处理器，包括第五代至强系列（Xeon）处理器及新款酷睿系列Ultra型号处理器，而且还首次向全球介绍了其最新型的Gaudi3芯片。
不过由于受到美国政府对华芯片出口禁令的限制，导致Gaudi3无法在我国境内发布，只能选择与美国市场同步发售的方式来予以回应当前的市场需求。
10台2纳米设备，已有6台被英特尔采购作为全球最大的半导体照明系统制造商之一，荷兰ASML公司在此领域拥有举足轻重的地位。其近期高调宣布，计划在接下来的数年内大规模量产10台最新规格的2纳米级设备，而目前已有6台已成为英特尔的独家采购对象。
此举充分彰显了英特尔对新技术的高度重视与深信不疑的态度。众所周知，伴随着科技进步的步伐日益加快，计算机芯片制造领域对尺寸的要求也日趋严苛。
而采用2纳米制程技术所生产的芯片将具备体积更小但效率更高的特点，从而更好地满足市场上日益增长的需求。为此，ASML发誓要将其设备的年产量提升至每年20台，以为全球范围内的芯片制造商提供稳定且优质的供货保障。
除此之外，英特尔亦在乃至于整个人工智能与计算领域都有所建树。他们即将推出的第五代至强处理器及全新的酷睿Ultra处理器便是直接服务于人工智能领域的杰出代表作，无疑将带来更高的运行效能以及工作效率。
值得一提的是，英特尔刚刚推出的专为人工智能设计的Gaudi 3芯片已经开始发售，性能表现远超竞争对手英伟达的H100，从而使英特尔在人工智能领域始终保持着业界领先的位置。
近来，ASML公司发布了其详尽的财务报告与现有订单状态以及未来的发展规划。据报告中披露，ASML在过去的一整年里实现了净销售额高达67亿欧元，净利润更是达到了宝座的高峰——19亿欧元，充分印证了其运营状况的卓越与稳定。
此外，ASML进一步透露其新增订单额首次突破26亿元欧元大关，截至当前尚有逾350亿欧元的订单尚未完成交付。如此显著的成绩有力地证明，全球各大知名芯片制造商对ASML的技术实力与产品质量皆抱着坚决的信赖并愿投入更多资源以满足市场需求。
英特尔能拿到全球第一台2nm光刻机，和美爹有很大关系当前阶段，阿斯麦（ASML）公司年度2纳米光刻技术产量仅能达至10件设备。此种情况下，英特尔已然占有六席，除此之外，来自台湾的晶圆代工厂——台积电、韩国发达公司——三星电子、美国内存制造商——美光科技及韩国存储芯片巨头——SK海力士等行业翘楚亦已经表达了对2纳米光刻机的订购意向，然而他们之后的排队顺序不幸被英特尔优先占据，正如一些用户所言，终究还是要看“老美的脸色”，英特尔得以牢牢抓住先机！
尽管英特尔率先拥有了全球首台2纳米光刻机，但其能否立即生产出符合标准的2纳米规格芯片仍然值得存疑。按预估时间表看来，2纳米光刻机将可能于2026年或者2027年正式应用于商用芯片制造领域。至于现有的芯片工艺发展水平，TSMC（台积电）仍然保持着优异的表现。
事实上，无论是TSMC还是三星电子，均已成功实现3纳米制程的批量生产。尽管如此，在良品率方面，三星仍然与TSMC存在不小的差距，这也是为何在争夺苹果、高通等业界领军者的3纳米订单时，TSMC独树一帜，而三星却黯然失色，至于英特尔，仍然需进行一番努力方能有所改善！
过去数年间，老美全力扶持英特尔巩固其龙头地位的意图明晃晃地展现出来。包括邀请台积电、三星赴美设立厂区、打压国内诸如中芯国际等优秀的芯片企业等行为，无不是旨在为自己的“爱子”排除一切障碍。
因而，英特尔之所以能获得全球首台2纳米光刻机，与其说是凭借自身实力，不如说和"美爹"的大力支持密不可分。
结语由此可见，当前的局势颇为明朗，高端光刻机优先供应给英特尔，以延缓台积电在此领域的领导地位，同时以此方式向台积电施加压力，使其需毫不吝啬地加速美国工厂的建设进程。
换句话说，台积电在美国设立分支机构已无退路可言，必须全力投入所需资金进行项目实施，现如今，光刻机已然成为牵制台积电发展的重要因素之一。
在这样的背景之下，若是成功扶持起英特尔，缩短与台积电之间的距离，那么台积电的技术和市场领先地位极有可能遭受双重冲击。目前所呈现出的各项迹象均表明，台积电的处境愈发堪忧。
回顾过去，台积电的创始人张忠谋曾预测，台积电在未来二三十年间的竞争优势将会逐渐消失。然而，随着中国大陆半导体产业链的蓬勃发展以及美方策略性地优先支持英特尔，台积电很可能会在更短的时间内失去其优势地位。
因此，台积电保持其优势的时长很可能不足六年，特别是当芯片制程工艺达到2nm阶段之后，其进一步拓展的空间日渐狭窄，而台积电的领先优势亦相应缩减。
鉴于以上情况，我们应深刻认识到，对于光刻机的研发工作应当作为长期战略坚定不移地执行下去，关键技术应收归自有掌控，而在芯片制造技术处于日益逼近极限的环境中，各大芯片制造商将面临严峻的瓶颈期挑战，这无疑为我国迎头赶上提供了宝贵的机遇。
纵观我国当前的推进速度、实际状况及取得的进展，可以看出，我们仍具备充足的时间与机会。让我们共同期待，夺回属于我们的那片天。
