2016年，在一场学术沙龙活动中，中国科学技术大学的朱士尧教授在面对学生提问时，语气笃定地断言：“中国永远造不出光刻机。”，这条发言被剪辑成的短视频，在2023年上海微电子宣布实现28纳米光刻机技术突破后，再度引发网络热议，迅速成为舆论焦点。
但是，当众多网民以“打脸现场”的心态沉浸在这场狂欢之中时，我们或许更应透过这则科学预言的反转，去探寻中国科技发展进程中那些被忽视的认知层面，以及背后隐藏的时代脉络。
一、预言者的认知体系翻开朱士尧教授的学术履历，一部浓缩的中国物理学发展历程清晰地呈现在我们眼前。1940年，朱士尧出生于浙江嘉兴。1963年，他从中国科学技术大学近代物理系毕业，彼时恰逢“两弹一星”工程启动。他积极投身科研工作，参与了合肥同步辐射加速器的建设，也见证了北京正负电子对撞机的落成。这些丰富且宝贵的经历，逐渐塑造了他对科技攻关独到而深刻的认知框架。
朱士尧教授
作为一名资深的核物理专家，朱士尧对技术路径有着近乎苛刻的严谨态度。在2003年出版的《同步辐射应用基础》这一专著中，他用整整三章的篇幅深入论述了精密机械制造对于基础科研的重要影响。这种思维模式自然而然地延伸到他对光刻机的判断之中。当他了解到ASML的EUV光刻机包含了10万多个精密零件，并且涉及全球5000余家供应商时，他所看到的，不仅仅是表面上的技术差距，更是整个工业体系之间存在的代际落差。
二、断言背后的时代背景要理解这则预言，我们必须回到2016年的具体时代语境中。在那个时期，中国最先进的光刻机制程还停留在90纳米，而ASML已经开始量产7纳米的EUV光刻机，两者之间的差距显而易见。更为关键的是，当年中芯国际订购的EUV设备，由于受到《瓦森纳协定》的限制，迟迟无法交付。这种“有钱也买不到”的困境，进一步加深了人们对中国光刻机技术发展的悲观情绪。
朱士尧的判断也许基于以下三个因素：
（1）技术生态的艰难处境：他曾经过深入计算得出，制造EUV光刻机所需的13.5纳米极紫外光源，其功率要求之高，相当于要将三峡水电站的发电量集中在极小的范围内，这在当时的技术条件下，几乎是难以实现的。
（2）人才断层的潜在危机：在参与国家重大专项评估的过程中，他发现光刻机研发领域中，35岁以下的骨干人员占比不足20%，人才结构的不合理，对技术的持续创新和发展构成了严重威胁。
（3）产业协同的巨大难题：他带领的团队通过调研发现，国内光刻机双工件台的定位精度与ASML相比，落后了两个数量级，这反映出我国在光刻机关键零部件的制造水平上，与国际先进水平存在较大差距。
这些基于当时实际情况的理性分析，在特定的历史时期具有一定的合理性，但却未能充分考虑到科技革命中可能出现的非线性突破。
三、预言失效带来的启示2023年，华为Mate60系列手机搭载的麒麟9000s芯片，采用SMIC的N+2工艺，成功实现了7纳米制程。这一突破之所以在业界引起轩然大波，正是因为它打破了传统的光刻技术路径。通过采用多重曝光技术和材料创新，在DUV光刻机上实现了接近EUV的精度。这种具有“东方智慧”的解决方案，或许正是朱士尧当年未能预见到的关键变量。
除了技术层面的突破，更深层次的变化还体现在技术之外：
（1） 新型举国体制推动的跨界协同：中科院光电所、清华机械系、华为2012实验室形成了紧密的合作“铁三角”，打破了ASML单一企业的研发模式，整合各方优势资源，形成强大的科研合力。
（2） 逆向创新实现的弯道超车：上海微电子采用“波长锁定+计算光刻”的创新方案，利用193纳米光源实现了28纳米制程，走出了一条具有中国特色的技术发展道路。
（3）数字孪生技术缩短的试错周期：华为“高斯实验室”借助AI模拟技术，将光刻胶配方的研发周期从18个月大幅压缩至3个月，极大地提高了研发效率。
这些突破充分印证了科技史学家托马斯·库恩的论断：范式革命往往会在现有评估体系之外悄然发生。
四、预言的价值重估
站在2025年的时间节点审视朱士尧的这则预言，与其将其视为一场“打脸”的闹剧，不如将它看作是一份珍贵的时代标本。它真实地记录了中国科技工作者在特定历史阶段的焦虑与清醒，而这种危机意识，恰恰成为了推动中国科技实现突破的动力源泉。正如朱士尧本人在看到国产光刻机取得进展后所说：“科学家的价值并不在于永远保持正确，而在于用专业的认知去激发更多的可能性。”
在合肥同步辐射光源实验室的墙上，至今仍挂着朱士尧手书的爱因斯坦名言：“想象力比知识更重要。”。这句话或许正是对这场“预言失效”事件的最好诠释——当知识框架限制了我们的判断时，正是那些敢于突破想象边界的创新，在不断重构着中国科技的发展轨迹，书写着新的辉煌篇章。
