此前华为Mate70系列带着麒麟9020芯片亮相，华为高管在接受媒体采访时承认，手机、AI等芯片的生产已经具备了国产化的能力。这意味着我国已经打通了中高端芯片生产线，而经过第三方权威拆解机构的逆向分析并判断：不仅工艺等效7nm，性能还可以与台积电4nm工艺芯片掰一掰手腕！

这件事让国人为之骄傲，同时也让欧美一头雾水，没有EUV光刻机，他们是怎么做到的？就连芯片设备制造巨头ASML都不吝夸赞，认为现阶段中国能解决7nm工艺芯片已经很好了。

不过，ASML还是补充道，与台积电、三星这些世界先进芯片制造商相比，仍存在10-15年的差距。因为ASML 非常清楚，我们没有EUV光刻机，这就是根本差距。

早期我国派专家前往ASML参观学习，在表达完我们的见解后却被嘲讽“给你们图纸都造不出来”；多年前中芯订购了一台EUV光刻机至今也没有发货。

很显然，在光刻机技术方面，尤其是EUV光刻机方面，不能卖给你，也不想教会你技术，甚至关键时刻还要比较一下明显差距，彰显一下自己在光刻机领域的统治地位。

然而，ASML万万没想到，中国扔出了一颗重磅炸弹，让不少外媒直呼：中国EUV光刻机出现了“拐点”！这次ASML不再像麒麟芯片被逆向后的那样，而是选择了沉默，不知道是不是emo了。

根据哈工大官方信息显示，樊教授带领科研团队成功制备出了13.5nm的极紫外光源，这是EUV光刻机不可或缺的核心技术，与ASML的EUV光源相比，哈工大极紫外光源技术采用了另外一种生成方式，名为“放电等离子体极紫外光源”，不仅绕过了西方技术封锁，而且与ASML采用的EUV光源来比，能效转换率高、运维成本低。

关键在于，这一成果更多的意义并没有字面上那么简单！

首先，哈工大这项技术并不是“纸上谈兵”，早在2022年哈工大就已经推出了光源样机， 2024年完成了原型机的研发，还通过了测试。这不仅是对ASML“给你图纸也造不出来”的强力回应，更用实际行动证明了我国在光刻机领域的研发一直在快速推进，科研实力雄厚。如今EUV光刻机光源难题被攻克，我国还有拥有全球最完善的工业体系，这为国产EUV后期零部件的研发、技术壁垒的突破提供了独特的优势。

其次，麒麟9020芯片的量产，充分证明我国解决了从设计、研发、制造、封装等多个环节的国产替代，之所以还与台积电、三星相比有10-15年的差距，根本原因就在于EUV问题。新加坡毕盛资产管理创始人王国辉就曾这样评价中国芯片：一旦中国芯片企业拿到EUV光刻机，这场“芯片战”顷刻间就会结束，中企立马就会追平三星、台积电，全球芯片格局也将被重塑。

中企能凭借现有的EUV光刻机实现7nm或等效7nm的N+2，制造工艺反超同平台的台积电，其实也印证了我们是一个好厨子，只是没有好厨具，更何况我们还有芯片传奇人物梁教授。

另外，ASML这次之所以emo了，原因就在于中国强大制造能力。特斯拉中国工厂产能占全球总出货量的51%；苹果中国产能占比84%，印度造甚至还要从中国采购半成品。这些数据足以证明中国强大制造能力和供应链整合能力。一旦中企成功推出第一代EUV光刻机落地，后续的量产一定能将EUV打到白菜价。高铁、光伏、数控机床、电信通讯等等，这些成功案例历历在目，光刻机自然也不例外！届时真应了那句话：中国芯片遍地都是，西方芯片没人要！