没有EUV光刻机就没有未来？专家对中芯国际发出警示：摆脱ASML依赖！

众所周知，EUV光刻机只有荷兰的ASML能够制造，但这家企业目前的状态也不太好，无法摆脱含美技术体系，导致失去了自主出货权，而中企也因为无法获取到EUV光刻机，无法有效的突破高端工艺瓶颈。

而在这样的阴影笼罩之下，近日美国再度出手了，根据美相关部门1月6号公布的消息，宁德时代、长鑫存储、中芯国际等多家中企被列入了新的清单当中，虽然没有公开具体会被限制什么，但显然后续的市场规划不会太好过。

而一切的限制自然是要回归到芯片层面的，美国此前就要求ASML中断对于中企的光刻机售后维修服务，但在权衡利弊之下荷兰暂时还未妥协，但对于中国市场而言，想要从西方国家获取到EUV光刻机，可能比登天还要难了，那我国的芯片产业还有未来吗？

针对目前国人普遍的疑问，业内人士新加坡APS创始人王国辉给出了答案，在接受彭博社采访时其回应：中芯国际是中国芯片的核心，该企业利用现今的市场优势，是有机会在市值上赶超台积电的，而中企如果能够研发出国产的EUV光刻机，那么芯片战争也就大结局了！

这句话有着很多个层面的意思，但很明显是在是警示中芯国际：要摆脱ASML的EUV光刻机依赖！同时也在提醒中国半导体：无法获取到EUV光刻机的话，那就提速自主研发的进程，否则未来没有太大的希望。

ASML创始人曾嚣张表态：就算把图纸摆在我们面前，我们也无法生产出高端的光刻机！那事实真是如此吗？国产的EUV光刻机究竟研发到哪一步了呢？

EUV光刻机是全球最复杂的工业设备，需要使用到的零部件超过10万，而其中最核心的就是极紫外光源技术，这些技术一直都被美国给垄断了，这也是ASML设备出货由他们说了算的缘由。

但如今在这项技术上，哈工大已经有了实质性突破，通过实验证实自研的“放点等离子体极紫外光刻光源”技术，已经能够提供13.5nm精度的极紫外光源，能够满足市面上所有光刻机的光源需求，并且还具备有造价低、效率高、技术难度小等优势。

除此之外长春光机所早前也已经官宣突破EUV光源技术，不过所采用的技术方向适合ASML一致的“激光等离子”方案，其中微缩投影光学系统、EUV多层膜技术、光学加工与检测系统、双工件台等等核心技术，均有企业、研究所在涉及研发。

虽然在一众核心技术上均已实现自主化，但要完成最终的EUV光刻机组装，还需要依靠完整的供应链，而这些供应链来自于全球二十多个国家和地区，短期之内要想整合可不容易，而全面自主化就算有可能，这耗费的时间我们也等不起，因此国产化EUV光刻机难度还是很大的。

中芯国际虽然研发出了N+1、N+2工艺，利用DUV光刻机的确可以实现不亚于7nm性能的芯片，而ASML也承认利用DUV光刻机，在极限操作下是可以实现7nm、甚至5nm芯片制造的，但前提是要牺牲大量成本和良品率。

而华为麒麟9000S的回归，就已经证实了这一点，7nm芯片是可以满足绝大部分领域需求的，如今我们已经实现了完全自主化，所以说能不能获取到EUV光刻机已经不重要了，重要的是我们现阶段有技术可用就行，对此你们是怎么看的呢？