半导体产业是一个极其复杂且庞大的产业链，光刻机很重要，单晶硅也很重要，光刻胶同样很重要。

半导体竟然使用到了光刻技术，那么就需要一种对光特别敏感的化合物，它就是光刻胶，简单来说通过光刻胶可以将电路图复制到芯片上，所以每一颗芯片的制造，都离不开光刻胶！

日本的光刻胶技术很强，我国多年来也一直很依赖日本的光刻胶进口，但由于日本是美国的铁杆小弟，所以我国光刻胶正面临卡脖子的风险。

中国的光刻胶产业发展较快，国产化替代稳中有升，武汉国家自主创新示范区传来好消息，国产光刻胶取得了关键性突破，一款名为“T150-A”的光刻胶产品横空出世。

1. 来自中国的光刻胶产品

T150-A光刻胶已经通过了量产验证，意味着T150-A光刻胶已经拥有了一套成熟的技术，它距离真正的量产只有一步之遥，简单来说，T150-A光刻胶的稳定性，工艺，分辨率等关键参数已经达到了量产要求，那么接下来就是大批量生产的过程。

T150-A光刻胶的极限分辨率为120nm，或许大家对这个数值没有什么概念。

120nm属于中低芯片制程，它与先进制程还有一定的差距，但要知道中低制程同样有大量的应用场景，比如说模拟芯片，功率器件等等。最重要的是，T150-A光刻胶的参数已经达到国际同类型优异产品的水平，如此说来，这款国产光刻胶放到国际市场上，同样具有竞争力。

2. T150-A光刻胶进步神速

T150-A光刻胶是由一家名为太紫薇的企业研发，这家公司成立时间还不到五个月，短短一百多天的时间里，T150-A光刻胶横空出世。

当然这并不是说T150-A光刻胶的研发只用了一百多天，其实该企业背后的研发团队已经在电化学深耕了二十多年。T150-A光刻胶不是最先进的胶，但却是市场需求量很大的一种光刻胶。

其实说起来，T150-A光刻胶将要面对的竞争还是比较激烈，对于这种低端光刻胶来说，国外企业也不会设置特别的门槛。

也正是因为如此，我们才需要更加重视T150-A光刻胶，因为外国的光刻胶一旦断供，受影响的将会是各行各业，千家万户。

T150-A光刻胶的配方设计，生产制造已经完全做到百分百国产化，这是一个振奋人心的好消息！

要知道120nm制程的光刻胶市场规模，大约在十亿美元左右，所以T150-A光刻胶的诞生不仅有国产化替代的需求，同时它也是一门生意。

随着下游产业茁壮成长，物联网，人工智能，5G都需要120nm制程芯片，这就是国产化替代的需求，这就是T150-A光刻胶的机会。

3. 国产光刻胶的发展的怎么样了？

或许大家会觉得120nm光刻胶实现国产化没有什么了不起，但如果你看到下面的数据，你就不会这么认为了！

从国产光刻胶整体发展来看，我国光刻胶国产化率还不到1%，光刻胶国产替代进程任重而道远。

在中国有超过九成的光刻胶都需要进口，由于中国光刻机产业起步晚，技术落后，这也造成追赶困难。光刻胶需要配方，需要原材料，而光刻机所需的原材料，中国同样不具备，也需要大量进口，我们可以将光刻胶看成是一种特殊的胶水，所以它最主要的成分就是树脂。

树脂是十分常见的原材料，获取相对简单，但是如果是酚醛树脂，它就有了一定的技术门槛，除了酚醛树脂以外，光刻胶还需要光引发剂。

光引发剂是重中之重，有了它树脂才具备了活性，有了它才会引发化学反应！

除了上述两种原材料以外，光刻胶还需要溶剂，因为树脂和光引发剂都需要放到溶剂中，这样光刻胶才能具有粘度，具有流动性，才能进行电路图复制。

光刻胶还会使用添加剂，它主要是因为提升光刻胶稳定性的，光刻胶构成看起来很简单，但是想要获得一种稳定且具备一定工艺宽容度的光刻胶却是非常难的。

看到了一款光刻胶的组成成分，那么问题来了，T150-A光刻胶的原材料是否做到了国产化替代？

想来这也是大家比较关系的问题。

它的原材料可能是有国产的部分，也有可能有从日本进口的部分，当然对于具体来源我们不得而知。

不可否认！日本光刻胶产品技术确实领先于我们，而且还不是领先一点点，是领先一大截。

只有认清了差距，我们才能确定国产光刻胶的发展方向，早在多年以前，我国科研机构就已经开始了光刻胶的研发工作，这其中包括了原材料，配方，生产工艺等多个环节。

比如说“双非离子型光酸”技术就是中国独创的一种生产工艺，另外我国企业在功能树脂，光引发剂的研发中也取得了新突破。

从光刻胶研发方向来看，先解决原材料问题是一个正确方向，光刻胶原材料得到了保障，那么配方就是一个或早或晚的时间问题。

中国作为全球最大的单一市场，我国光刻胶领域的产业集群规模也正在发挥作用，随着政策支持，相信中国光刻胶企业肯定会越做越好，最终实现光刻胶国产化替代！

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