美国失策了!北京大学新技术,比台积电3nm材料还优秀

科技有点源 2025-02-27 06:18:11

之前我国航母下水的时候,网上总有杠精说:“有什么用,还不是造不出比航母难的芯片?”起初我不以为然,可查阅资料后才发现,半导体芯片堪称现代科技的命脉——从手机电脑到航天器,无一不依赖这颗“电子心脏”。

而华为等中国企业突破技术封锁、自主研发“中国芯”的历程,更印证了这一领域的极高门槛。

不过好消息是,当美国试图用制裁锁死中国半导体咽喉时,北京大学团队却在另一条赛道上撕开了一道裂口——二维环栅晶体管,以硒氧化铋(Bi₂O₂Se)为核心材料,速度和能效同时超越硅基物理极限,甚至将台积电、三星等巨头的3nm技术甩在身后,实现“换道超车”!

硅基芯片的黄昏:物理极限与制裁枷锁

全球芯片行业有个公开的秘密:硅材料快撑不住了。过去50年,工程师们靠着把晶体管越做越小,让手机从砖头变卡片、电脑从房间变成书本。但这两年台积电和三星挤牙膏式地搞出5nm、3nm,明眼人都知道硅基芯片快到物理极限了——再往下缩,电子都开始“漏电”了,芯片发热能煎鸡蛋。

硒氧化铋:中国“换道超车”

北京大学团队的杀手锏,在于从材料源头重构芯片基因。硒氧化铋的二维结构厚度仅0.7纳米,这种材料的天然氧化层Bi₂SeO₅就像一层原子级光滑的保鲜膜,和芯片里电子传输的“高速通道”完美贴合。

打个比方,就像把原来坑坑洼洼的土路升级成了磁悬浮轨道,电子在里面跑的时候几乎遇不到阻力,这就能让芯片的运算速度更快、发热更少。

二维环栅晶体管及三维异质集成示意图

目前,我们还生产不出3纳米精度的硅基芯片,但换成该新型二维环栅晶体管,无需最先进的光刻机,凭借目前的加工工艺就能制作出性能超越英特尔、台积电的芯片!

《自然》论文截图

从实验室到工厂的“加速器”

新材料量产的最大瓶颈,往往不在技术本身,而在工艺优化与生产协同效率。传统芯片制造依赖高度定制化的工业软件和复杂流程,让量产周期被迫拉长。

此时,国产低代码平台或许能让芯片量产提速。比如阿里的宜搭、腾讯的微搭、华为的AppCube、云表平台等,可以让系统开发周期缩短70%,开发速度是普通代码开发的5-10倍。

以云表平台为例,它通过“画表格”的方式,拖拽可视化组件和自动化流程引擎,让业务人员可快速搭建生产管理系统,将工艺参数调试周期从数月压缩至数天。例如,某半导体企业利用云表平台整合设备数据流,实时监控硒氧化铋薄膜生长质量,能让良品率提升不少。这种“敏捷开发”模式,或许是芯片从实验室到工厂的“加速器”。

而且,这些功能还能根据芯片生产的实际需要,灵活地增加、删除、查询和修改。

比如可自定义实时数据看板,集成终端交互、LED 显示、异常报警、设备跟踪等核心功能,同时配备多层权限管控,确保敏感数据仅授权人员可访问操作。

像中铁、燕山大学、海尔、中国电信、延长石油等知名企业和高校都在用这类低代码平台。

结语

美国或许低估了中国科技的韧性。当彭海琳团队在《自然-材料》发表成果时,全球半导体产业已嗅到变局气息:二维材料+环栅架构可能成为3nm之后的下一代标准,而中国正掌握定义权。这场革新终将让世界看清:技术霸权的黄昏,正是创新多极化的黎明。。

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文:胖胖

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