美一直都在限制ASML出货，先进的EUV光刻机制造出来后，美就通过瓦森纳协定限制其出货。

EUV光刻机是生产制造7nm以下芯片的必要设备，国内厂商早就全款订购了一台，至今ASML都无法交付。

即便如此，美仍在进一步修改规则，通过三方协议进一步限制荷兰出货主流的DUV光刻机。

ASML知道三方协议签订后，就第一时间对外透露了消息，并表示目前仍能继续出货。

三方协议内容公布后，日本将限制23种半导体产品出货，预计从7月中旬开始。荷兰表示将配合美进行光刻机出口管制，但并没有公布具体的实施时间。

但荷兰和ASML都表示，虽然美限制出货，仍能够出货部分光刻机，可用于制造当下紧缺的汽车芯片等。

ASML还将持续出货1980i型号的DUV光刻机，单次曝光精度为38nm,在多重曝光工艺下，可将芯片制程缩小至7nm。

关键是，ASML强调中国市场至关重要，在未交付的订单中，超过20%的订单来自国内厂商，预计有600亿的光刻机订单，约400台，接下来将加速向国内交付。

ASML财务总监也表示，预计随后几个季度对中国的销售将“显著反弹”，来自国内的营收也将快速增长。也就是说，ASML已经确定加速向国内厂商交付光刻机。

当然，ASML加速向国内厂商出货，也透露三大信息。

首先，不愿意站队。

芯片本身就是全球化产品，没有任何一个国家掌握了完整的、先进的芯片产业链，所以在芯片规则修改后，ASML一直都在反对。

反对美限制出货，称这会给美半导体行业带来严重损失；反对继续修改规则，称ASML光刻机中采用美技术有限，对出货的影响也是有限的。

甚至ASML还公开表示，中国市场至关重要，中国自研光刻机合情合理。

三方协议签订后，ASML仍坚持出货，这就表明其不愿意站队。

其次，中国市场很重要。

芯片规则修改后，ASML就强调自由出货；三方协议签订后，ASML仍坚持出货，这足以说明中国市场很重要。

实际上，国内是全球最大的芯片消费市场，美芯企1/3的营收都来自国内，随着芯片本土化进程加速，国内需要更多光刻机。

数据显示，国内市场已经成为ASML第三大市场，未来占比自然会进一步提升。

更何况，ASML都承认，如果不是因为限制出货，中国将会成为EUV光刻机最大的市场。

最后，国产半导体技术进步很快。

ASML的光刻机技术已经到达了瓶颈，否则，荷兰也不会投资11亿欧元，进入光电芯片领域，，其目的就是想打造另外一个ASML。

相比之下，国内在光源技术方面已经取得突破，在光电芯片、量子芯片方面又处于领先地位。

所以ASML加速在国内市场布局，今年计划扩招200人，覆盖整体光刻解决方案下的光刻机、计算光刻和量测业务，包括客户支持工程师、软件开发工程师及职能部门等职位。

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