打脸之速，犹如疾风骤雨，荷兰方才迈出扩大光刻机管制的步伐，我国便紧随其后，抛出了一枚震撼弹——《首台重大技术装备推广应用指导目录》横空出世，宣告着国产光刻机的崛起。在这部由国家工信部精心编纂的目录中，半导体制造业的璀璨星辰熠熠生辉，而光刻机这颗最为耀眼的明珠，更是吸引了万众瞩目。

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目录中，氟化氩光刻机以其193纳米的光源，分辨率精确至≤65纳米，套刻误差≤8纳米的卓越性能，傲视群雄。依据套刻精度与量产工艺1：3的黄金比例，结合其标注的精度数据（若能配以直观图表，将更加一目了然），此光刻机无疑已具备量产28纳米工艺芯片的实力。

28纳米，虽非顶尖科技的代名词，却承载着划分芯片世界中低端与中高端的千钧重量。在这片广阔的芯片蓝海中，除了那些尖端领域的CPU、GPU、AI芯片外，其余诸如军工领域的卫星火箭、工业界的高铁、无人机、汽车、医疗设备，乃至日常生活中的电视、空调、智能手表等，皆离不开28纳米及以上技术的支撑。