众所周知，当今时代，芯片的大规模量产宛如精密科技的交响乐，而光刻工艺则是其中不可或缺的指挥棒，而这一切的幕后英雄，非光刻机莫属。在全球光刻机领域的璀璨星空中，四大巨头熠熠生辉，它们分别是荷兰的ASML、日本的尼康与佳能，以及中国上海的微电子。

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探究这份额分布的不均，根源在于技术实力的鸿沟。如下图所示，这差异一目了然，ASML犹如技术的珠穆朗玛，是唯一能够攀登至EUV光刻机巅峰的勇者，其EUV光刻机份额独占鳌头，高达100%，仿佛傲立于世界之巅的孤峰。尼康虽也能制造浸润式DUV光刻机，但产量之有限，犹如夜空中偶尔闪烁的流星，难以与ASML的璀璨星河相抗衡，更多时候，它只能提供技术稍显落后的机型，扮演着陪衬的角色。

至于佳能与上海微电子，它们的技术脚步尚停留在90nm的古老时代，如同历史的遗迹，与前沿科技的距离遥不可及，因此，它们的客户也多是那些技术已相对成熟，对尖端设备需求不高的晶圆厂。