就目前全球半导体市场竞争格局的微妙态势而言，海外巨头如AMAT、ASMI、Lam Research以及TEL等，凭借其深厚的技术积累与市场布局，牢牢占据了薄膜沉积设备领域的大部分市场份额，宛如繁星点缀的夜空中的璀璨明珠。然而，国内薄膜沉积设备行业正以前所未有的速度蓬勃发展，拓荆科技、北方华创等本土厂商凭借持续的技术创新与突破，已顺利跻身国内先进制程产线，其产品的精度之高，足以胜任14纳米乃至更先进工艺节点的芯片制造需求，犹如破晓时分的第一缕曙光，照亮了国产半导体设备自主化的征途。

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干法刻蚀领域内，ICP刻蚀设备（专长于硅与金属的精细雕琢）与CCP刻蚀设备（电介质刻蚀的高手）并驾齐驱，市场份额平分秋色，共同演绎着半导体制造领域的“双雄会”。