官方证实2019年我国就已造出DUVi,年底量产型号或开始交付

科技解析站 2023-10-14 13:34:21

近年来,网络上一直流传着这样一则故事:

2002年,上海微电子创始人贺荣明带队去欧洲考察时,ASML的工程师傲慢地表示:“就是给全套图纸,中国人也造不出光刻机来。”

先不论这个故事是否真实,但这种设备难造却是不争的事实!仅双工件台就要求纳米级移动精度,还不算对精度要求极端苛刻的物镜系统。

双工件台

然而,没什么技术是聪明又勤劳的中国人攻克不了的!从2019年开始,就有官方消息证实我国已经造出DUVi光刻机

2019年11月,中国科学院院士、中科院微电子所所长陈大年就表示,中国有望在3年内研制出分辨率28纳米以下的光刻机。

他说:“我们现在已经有了28纳米的光刻机,我们正在做14纳米、7纳米甚至更低的光刻机。我们有信心在3年内实现这个目标。”

2021年5月,上海微电子的一位工程师在接受日本经济新闻采访时称:"我们的支柱产品是用于90nm制程的光刻机,用于28nm和14nm芯片生产的光刻机成品率还有提升空间。"

2023年10月5日,TechWire Asia 援引《证券日报》报道称,中国最成功的光刻扫描仪制造商上海微电子设备有限公司( SMEE )本周重申,计划在今年年底前交付首款能够采用28纳米级制造工艺生产芯片的扫描仪。

外媒报道截图

DUVi分辨率达38纳米,单次曝光就可生产出28纳米制程工艺的处理器。如果双工件台移动精度足够高,这种光刻机还能支持7纳米甚至5纳米制程工艺。

官方消息已经证实,国产DUVi四大关键系统均已造出

查阅资料得知,DUVi由ArF光源、NA1.35物镜系统、浸液系统、双工件台四大系统组成,目前官方消息已证实我国均已造出。

1、深紫外光源(ArF光源)

2022年3月18日,中科院微电子研究所在官方网站发布了《2021年年鉴》,文中提到:完成28nm浸没光刻机曝光光源10mJ@4KHz工程样机交付整机使用及15mJ@6KHz原理样机研制(链接1,见文末)。

中科院微电子研究所官网报道截图

10mJ@4KHz光源工程样机指的是输出功率为40W的ArF光源,用于DUV曝光设备,最高支持65纳米制程工艺。15mJ@6KHz光源工程样机指输出功率为90W的ArF光源,用于DUVi曝光设备,结合浸液系统,最高支持7纳米制程工艺,若不考虑成本,可以做到5纳米制程工艺。这还是2020年的成就,经过近3年时间,足以量产90W的ArF光源。

2、物镜系统

支持DUVi的物镜系统NA值要达到1.35,国内一般称为“高NA浸没光学系统”。随便搜索都能查到官方验收时间为2017年12月23日(链接2,见文末)。

物镜NA数值孔径变化趋势

虽然目前公开信息无法查到NA1.35物镜系统的产业化信息,但根据以往经验,产业化耗时也就1~2年而已,预计目前NA1.35物镜至少完成2代迭代改进!

3、浸液系统

熟悉科研成果转化流程的网友都知道,一项科研成果必须完成验收,才有可能投巨资建立生产线量产。2018年9月7日,杭州市临安区人民政府官网发布了启尔机电光刻机浸液系统产品研制基地主体建筑封顶的消息(链接3,见文末)。如今5年多过去了,估计都已经迭代改进生产至少2代了。

杭州市临安区人民政府于2022年6月14日发布的一份题为《杭州市临安区经济和信息化局关于区政协十届一次会议第203号提案的复函》的文件当中提到,“光刻机浸液系统项目、光刻机受制约关键零部件国产化产品研发项目等两个02专项,其中,光刻机浸液系统项目已成功交付0号样机、1号机,进入产品制造阶段。华卓精科承担的02专项光刻机工件台项目加快建设。”

这足以证明,截至2022年6月14日,DUVi所需的浸液系统已交付至少2套。

4、双工件台

据了解,ASML型号为NXT:1980Di的DUVi套刻精度不低于2.5纳米。

2022年5月10日,《中国光学期刊网》一篇名为《超精密高速激光干涉位移测量技术与仪器》的研究论文证实,超精密激光干涉仪已经用于28纳米节点DUVi样机(链接4,见文末)。这说明我国已经能造出满足NXT:1980Di要求的双工件台,而这种设备最高可支持7纳米制程工艺。

NXT:1980Di参数

综上所述,早在2019年我国就造出DUVi,2021年已能用于生产,只是良率有待提升,但起码已解决了有无问题,必要时可立即投入生产,只是良率较低而已。经过4年多优化,国产DUVi至少已经发展到ASML公司NXT:1980Di水平,如果双工件台套刻精度能够进一步提升,那么做到NXT:2000i或者NXT:2100i也是有可能的。因此,我们推测,上文提到的年底交付的DUVi很可能不止达到NXT:1980Di水平,而是起码达到NXT:2000i的水平,可支持5纳米制程工艺。

道路是曲折的,前途是光明的,我相信在不远的将来我国科技水平必将全面引领世界!

链接1:http://www.ime.ac.cn/skjs/nj/202203/t20220318_6400067.html?share_token=2f06c838-975a-4915-820a-0cbee575a172&tt_from=copy_link&utm_source=copy_link&utm_medium=toutiao_android&utm_campaign=client_share - 2021年年鉴--中国科学院微电子研究所 - 今日头条

链接2:http://cnepo.com.cn/index.php?id=1892

链接3:https://www.linan.gov.cn/art/2018/9/18/art_1366282_21438291.html?share_token=182474f0-ae75-43c6-aae1-708a830ddbe0&tt_from=copy_link&utm_source=copy_link&utm_medium=toutiao_android&utm_campaign=client_share - 项目建设,我们是认真的!(第三辑)-杭州市临安区委 杭州市临... - 今日头条

链接4:https://m.instrument.com.cn/news/d-619907.html?share_token=188d43da-a2f6-4bd6-8721-0b0cfbf8e3d0&tt_from=copy_link&utm_source=copy_link&utm_medium=toutiao_android&utm_campaign=client_share - 超精密高速激光干涉位移测量技术与仪器_资讯中心-仪器信息网 - 今日头条

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