大家都知道，前段时间随着Mate70系列的发布，华为官方宣布了一个重大消息，那就是该系列手机的全部芯片均已实现国产化。

这话一出，网上立马就炸了锅，大家都觉得，这不仅是华为成功绕过了老美的芯片封锁，还意味着我们国家已经具备了能造7纳米级别芯片的能力。

老美那边听到这个消息，也是一头雾水，因为他们不知道把EUV光刻机这些关键设备卡得那么死，华为他们是怎么搞定的？连ASML这种光刻机大佬都对华为的进步赞不绝口，但话说回来，ASML也觉得我们现在跟台积电、三星比，在芯片制造水平上还差个10到15年，主要就是卡在EUV光刻机上。

客观来说，ASML这话不是没道理。我们确实能自己造7纳米芯片了，但因为没有EUV光刻机，产能和良品率都受影响，成本也上去了。老美还琢磨着，只要我们迈不过EUV光刻机这道坎，我们的高端芯片产业就难有大作为。

让老美万万没想到的是，最近我们这边又有大新闻了，让不少外国媒体都惊呼，EUV光刻机事件要翻盘了！

据最新消息，哈尔滨工业大学的一支科研团队，在樊继壮教授的引领下，运用放电等离子体技术，成功研制出了一款13.5纳米级别的极紫外光源。与ASML公司所使用的EUV光源相比，我们这款光源展现出了更为卓越的性能——不仅能量转换效率显著提升，而且体积更为紧凑，成本也更低。

尤为值得一提的是，哈工大的这项技术成果绝非纸上谈兵。早在2022年，团队就已成功推出了光源样机，并在此后的两年间，即至2024年，持续完成了原型机的研发工作，且顺利通过了各项测试。这一连串的成就预示着，哈工大此次的研发突破，将从根本上填补国内光刻机产业在EUV光源领域的空白，为国产EUV光源的问世注入强劲动力。

不可否认，EUV光刻机这玩意儿复杂得很，不光是光源，还有双工件台、物镜这些顶尖技术，ASML自己都得靠全球5000多家供应商。但我们的优势就是工业体系全，虽然现在其他EUV核心技术上跟ASML还有差距，但我们有的是耐心和智慧，一步步来，突破是早晚的事儿。哈工大这次就是个最好的例子。

针对哈尔滨工业大学此次科研领域的重大突破，新加坡毕盛资产管理公司的创立者王国辉先生表达了极高的赞誉，他视此为中国自主研发EUV光刻机征途上的决定性里程碑。

一旦中国大陆成功研发并实现EUV光刻机的量产，这场围绕芯片技术的激烈竞争或将迎来终章，届时，中芯国际有望与台积电并驾齐驱，而华为也将挣脱束缚，大展拳脚了。

正所谓“世事如棋，局局新”，我们在光刻机领域的突破让美国的霸权主义陷入困境。为了打压我们半导体产业，美国什么招儿都用了，EUV光刻机算是他们最后的杀手锏了。现在这道墙眼看要被我们推倒，他们也没什么新招儿了。

ASML也得小心点，以前他们说过，就是把图纸给我们，咱们也造不出EUV光刻机。结果脸被打得啪啪响。盾构机就是个例子，我们一旦突破了，价格就下来了，光刻机也一样。

往后看，如果荷兰那边还跟着老美走，一味打压咱们半导体，ASML不光得丢咱们这块儿的市场，国际上也得面临更大的竞争。对此，你们怎么看？