全球芯片制造巨头ASML公司最新推出的High-NA极紫外光刻机引发了业界的广泛关注。这款设备被认为是人工智能领域必备的芯片制造设备，具有重要的意义和巨大的前景。High-NA光刻机可以在半导体上刻出仅有8纳米宽的线条，比上一代产品细了1/1.7，为芯片容纳更多的晶体管提供了可能。

人工智能正以惊人的速度发展，越来越多的行业开始应用该技术。人工智能需要大量的计算能力和数据存储，而这正是High-NA光刻机所能提供的。ASML首席执行官Peter Wennink表示，没有ASML的技术，人工智能领域的发展将无法实现。高性能芯片制造设备的需求正成为行业发展的风向标。

ASML作为唯一一家生产最先进半导体的设备供应商，其产品需求的增长也反映了行业的健康状况。上季度，ASML收到的EUV光刻机订单创下了纪录，显示了大客户对该技术的乐观预期。安装这台高性能光刻机需要6个月时间和250名工程师，安装过程中需要250个集装箱，可见其复杂性和重要性。

High-NA极紫外光刻机的推出引发了全球芯片制造行业的热烈反响。这款设备提供了更高的分辨率和更精细的线条，为人工智能和其他领域的发展提供了新的机遇。ASML公司以其在半导体领域的领导地位，成为行业领导者，并为其他公司树立了标杆。

原来，导致ASML管理层不看好2024年继续高速增长的最重要原因，在于他们的旗舰EUV产品已经很难取得重大技术突破了。

我们知道，ASML当前主流销售的EUV光刻机产品，属于所谓“Low-NA系统”，代表指标是NA值(数值孔径)为0.33。这类系统的分辨率比较有限，但对于当前3nm制程的芯片制造而言，也已足够。如果我们用日常生活中的例子来比喻，它好比我们拍照时使用的手机摄像头，分辨率够用，但如果要放大很多倍仍然会模糊。

那么，理所当然的，ASML的工程师们一直在研发下一代的EUV光刻机，希望获得更高的分辨率。这next-gen的产品指标是NA=0.55，相当于电脑上专业的照相机。比手机摄像头更厉害，可以拍出可以无限放大也不模糊的精美照片。这类系统被称为“High-NA系统”，理论上可以实现比当前EUV产品更精细的2nm甚至1nm的芯片制造工艺。

但是问题也来了——这next-gen的High-NA EUV系统，单台售价达到了惊人的380万美元，不仅比上一代贵了一倍多，而且ASML自己도承认，要大批量生产这种新机型，还需要很多技术突破，目前的产能十分有限。据悉2023年ASML能够做出的这种新机器还不到10台呢！

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