近日，深圳市新凯来技术有限公司(新凯来)在SEMICON China 2025展会期间首次公开亮相，并发布了多款新产品，主要集中在半导体制造工艺的多个关键环节。这些产品的推出，标志着新凯来在半导体制造设备领域取得了重要的技术突破和产品创新。

在半导体制造工艺设备方面，新凯来推出了五款重要设备。首先是外延沉积（EPI）设备，产品代号为峨眉山系列，该设备用于高质量的外延层生长，是半导体制造工艺中的关键技术之一。其次，原子层沉积（ALD）设备以阿里山系列命名，已适配5纳米及更先进制程，能够满足高端半导体制造的需求。物理气相沉积（PVD）设备则以普陀山系列为代表，是半导体制造中不可或缺的一环。刻蚀（ETCH）设备的武夷山系列支持高深宽比介质孔刻蚀，良率直逼国际先进水平。此外，化学气相沉积（CVD）设备的长白山系列用于薄膜沉积，是半导体制造中的重要手段。

除了半导体制造工艺设备，新凯来还发布了多款量检测设备，覆盖了光学检测、光学量测、PX量测和功率检测等多个领域。光学检测产品包括岳麓山BFI、丹霞山DFI、蓬莱山PC、莫干山MBI等；光学量测产品有天门山IBO、天门山DBO等；PX量测产品涵盖沂蒙山AFM、赤壁山-XP XPS、赤壁山-XD XRD、赤壁山-XF XRF等；功率检测产品则包括RATE-CP、RATE-KGD、RATE-FT等。

这些新产品的发布具有重要的背景和意义。长期以来，全球高端半导体设备市场被欧美日企业垄断，中国晶圆厂设备采购费用的70%需付给海外厂商。在外部技术封锁的背景下，国产替代需求迫切。新凯来发布的多款设备，有助于打破国际垄断，提升国产设备的市场份额，推动中国半导体产业的发展。

新凯来发布的新产品具有多项技术优势和特点。首先，公司在真空腔体、精密传动系统、光学模块等核心部件上实现了全自主设计，摆脱了对进口供应链的依赖。其次，上游零部件100%国产化，降低了成本，提高了供应的稳定性。此外，关键技术对标国际巨头，多项技术指标达到或接近国际先进水平。

资料显示，新凯来成立于2021年8月，隶属于深圳市重大产业投资集团，是深圳国资全资子公司。公司注册资本雄厚，核心团队具备20年以上电子设备技术开发经验。新凯来的国资背景为其提供了战略定力，其目标是保障国内半导体及电子制造产业供应链安全。公司还与国内FAB厂（晶圆制造厂）合作，推进设备研发与工艺验证，缩短产业化周期。