ASML对掌握EUV光刻机的生产技术十分自信，表示即便放出图纸，别人也造不出。很多光刻机巨头也明白造EUV光刻机的难度，所以基本上只专注中低端光刻机，对高端EUV光刻机并未全力以赴。

然而俄罗斯传出新消息，计划研发媲美EUV的光刻机设备，自主打造高端光刻机。俄罗斯定下怎样的高端光刻机研发计划呢？能利好华为吗？

高端EUV光刻机的生产难度相信大家都有所耳闻，很多人为形容生产EUV光刻机的难度，会列出一大堆数据。例如采用10万个零部件，90%的技术来自世界各国顶级科技，还有5000家供应商等等。

涉及到光刻机的四大件，更是需要几十年的技术沉淀，不是一个国家能独立造出来的。可我们一直被传统的思想观念给束缚了，ASML作为唯一能生产EUV光刻机的制造商，其在中高端光刻机技术领域采用的是深紫外和极紫外光技术。

最高的极紫外光EUV可以达到13.5nm波长，适用于7nm及以下的芯片制造。

可是俄罗斯另辟蹊径，没有从传统的极紫外光方向出发，而是打算采用X射线打造出媲美EUV光刻机的半导体设备。具体是什么情况呢？

据传来的消息显示，俄罗斯计划首期投资6.7亿卢布，由莫斯科电子技术学院承接高端光刻机项目。这一光刻机被称作无掩模X射线光刻机，计划达到EUV光刻机级别。

大致情况就是如此，俄罗斯拿出不菲的研究经费，还是由俄罗斯最顶级的研究学府机构参与项目。

但大部分人对于俄罗斯的这项举动是有些匪夷所思的，研发EUV光刻机何等艰难，ASML也是靠着背后几十个EUV联盟国的共同扶持才有的今天。

ASML生产的EUV光刻机自主技术占比只有10%，其余均靠进口完成。而现在隔壁邻居犹如一叶扁舟，遗世而独立，怎么可能获得来自这么多国家的技术支持。

更何况是当下这种情况，又有多少供应商会供应技术。所以只能靠自己，那问题是俄罗斯自研高端光刻机有多大的把握，或者有哪些技术优势？

这就不得不提到X射线了，X射线比极紫外光有更短的波长，可以达到0.01nm到10nm，这决定了X射线光刻机有更高的分辨率。对刻画更细小的芯片电路有更大的技术优势。

另外X射线光刻机没有光掩模版，省去了传统EUV光刻机光掩模复刻电路图到硅片上等多个步骤。如此一来，研发成本和生产难度都会大大降低。

最后一个就是俄罗斯有深厚的X射线技术积累，意味着俄罗斯并不是从头开始。估计只需要一定程度的推动和资金支持，加大对X射线光刻机的研发，就有可能获得实际成果落地。

所以俄罗斯研发X射线光刻机的优势是比较明显的，如果没有绝对的把握，估计对方也不会定下如此远大的目标。

俄罗斯肯定也知道EUV光刻机的生产制造难度有多高，ASML说公开图纸别人也造不出的话语，其实未必是在吹牛。

很多东西就算摆在面前，可如果没有相应的工具设施和技术积累，也未必能生产出来。

就好比每份食品的包装袋上都有配料表，可就算配料表公开，在没有掌握工艺技术的前提下，就一定能原汁原味复刻出相同的味道吗？可能连提取一份材料都做不到。

可是现在，俄罗斯打算另起炉灶，抛开配料表重新拟定自己的配方，用自己的工艺技术走全新的路线。有这些优势和足够的信念，未必不能成功。

估计ASML会感到始料未及，一方面要面对中国不断发展的光刻机产业，抢占中低端光刻机市场，另一方面俄罗斯冲刺媲美EUV的光刻机技术，一旦成功，ASML独一无二的局势将被彻底打破。

先不论俄罗斯研发X射线光刻机能否取得最终突破，至少俄罗斯已经有了明确的研发目标。将来也会朝着这条路上走下去，当下的市场情况已经让隔壁邻居充分了解到，核心技术买不来，也换不来，只能靠自主研发。

那么俄罗斯研发X射线光刻机能利好华为吗？华为面临和他们一样的情况，被外界市场规则“特殊照顾”。设计的芯片造不出来，要么等待规则被打破，要么用不含美技术的生产线为其生产芯片。

从好的方面去想，如果俄罗斯研制X射线光刻机取得成功，还具备生产相应芯片的产业链，或许华为会成为一大赢家。双方若能展开合作，华为将实现自研芯片的破局，回到全球舞台，从而利好华为。

俄罗斯传出的新消息事关高端光刻机，没有从极紫外EUV路径出发，而是以波长更短的X射线进行研究。若大获成功，以隔壁邻居和华为的合作关系，未必没有可能让华为芯片回到生产线。

当然，这些都是后话，只是对未来趋于良好的预测，市场变幻多端，谁也不知道事件会不会朝着预想中的轨迹发展。

总之在一切还没有定论之前，不如多观察隔壁邻居的具体动向吧。

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