美国这个国家挺有意思！过去把几十年的精力放到了美国金融产业上，现在美国认识到金融毁了美国的制造业，于是现在美国又把重心转移到制造业上面来了。

美国为了提升高端半导体产业链，推出了具有深远影响的《芯片与科学法案》。该法案不仅为美国本土芯片产业提供了巨额补贴，美国还邀请台积电和三星电子等知名企业赴美建厂，但接受补贴的企业必须在美国本土制造芯片，而且在美国生产出来的芯片技术服务要优先用到美系科技公司上。

美国想要把高端半导体产业链掌握在自己手里，但是欧洲和日韩的半导体公司也都有着自己的小算盘。因为任何一个国家都明白这个道理，那就是高科技产业里的核心技术，必然不能依赖于外国公司。所以对于美国而言，美国想要掌握高端芯片，那么也必须要解决高端光刻机的问题。目前全球最高端的光刻机是掌握在荷兰ASML公司手里，虽然美系资本在该公司拥有一定的股份，但最终的话语权还是在ASML公司手上。所以这时候美国想的是如何打造出高端光刻机，或者说绕过荷兰的高端光刻机，继而推动高端半导体产业的持续发展。

对于上面这个问题，我之前就说过，美国可能会探索替代技术，如电子束光刻（EBL）或纳米压印光刻（NIL），以绕开ASML的技术垄断。这些技术虽然尚未达到ASML的水平，但在某些特定应用中可能有潜力。

今天美国芯片圈传来这个消息，我认为十分值得大家关注。IT之家 1 月 5 日消息，美国劳伦斯利弗莫尔国家实验室（LLNL）正在研发一种基于铥元素的拍瓦（petawatt）级激光技术，该技术有望取代当前极紫外光刻（EUV）工具中使用的二氧化碳激光器，并将光源效率提升约十倍。这一突破可能为新一代“超越 EUV”的光刻系统铺平道路，从而以更快的速度和更低的能耗制造芯片。

EUV技术，作为当前半导体制造领域的高端技术，以其高精度和高效率著称，但同时也面临着高昂的成本和能耗问题。LLNL的铥元素激光技术，则有望在这一基础上实现质的飞跃。

所以咱们还是得说句实话，自打美国推出芯片法案后，美国这几年在半导体产业里还是取得了不俗的成绩。

看到这里就有朋友们会问了，咱们中国的芯片产业发展到什么地步了呢？我认为这个可以从近期中国芯片赴美参会上，得到答案。

过去几十年间，中国逐步完成了从“世界工厂”向“全球创新中心”的转变。在CES 2024上展出的各种高科技产品就是最好的证明。无论是智能家居设备、可穿戴技术还是人工智能应用，都能看到中国企业的身影。

根据CES官网的数据，今年共有近1500家来自中国大陆及港台地区的企业参展，占参展商总数的三成以上，这一数字较去年有所增长。