据12 月 12 日的消息，三星电子董事长李在镕和SK集团董事长崔泰元共同访问荷兰ASML总部，并与ASML以及韩国总统尹锡悦就半导体芯片联盟事宜进行探讨。
ASML与三星电子已签署备忘录，将共同投资1万亿韩元在韩国建立研究中心，并利用下一代极紫外光刻机研究超精细半导体制造工艺。三星计划在五年内从ASML采购50台EUV光刻设备，每台设备单价约为2000亿韩元，总价值可达10万亿韩元。
三星电子去年6月推出了全球首个采用全栅极（GAA）技术的3nm代工技术，三星电子计划在明年上半年进入3nm工艺的第二代，2025年进入2nm工艺，最终在2027年进入1.4nm工艺。
考虑到EUV设备的交付周期至少需要一年，与ASML的合作对于三星来说非常重要。为了确保采购更多EUV光刻设备，以支持其半导体工艺发展，李在镕董事长于去年6月访问了ASML总部，进一步会谈也在同年11月进行。这次ASML与三星签署备忘录的消息显示，这些会议可能取得了实际成果。
