众所周知，如今各国都非常重视半导体领域的发展，因为随着科技的进步，智能化也在逐步普及。如此一来，芯片的重要性不言而喻。故而大家也越来越关注芯片制造设备——光刻机的相关资讯。

而ASML作为全球领先的光刻机生产厂家，其一举一动都备受各界关注。毕竟ASML不仅是全球唯一能够生产EUV光刻机的企业，而且其生产的DUV光刻机也占据了全球大部分市场份额。

据相关数据显示，ASML2022年全球光刻机市场占有率高达82%，毫不夸张的说，在光刻机领域，ASML一家独大。

近日，ASML传来了新消息。据快科技消息，ASML正式官宣将会在今年年底交付首台高NA EUV极紫外光机，每台的销售价格在3亿欧元左右（折合人民币约24亿元）。据悉，英特尔1.8nm工艺、三星以及台积电2nm工艺或将采用这种最为先进的光刻机。

那么，ASML官宣的这条新消息是不是意味着中国光刻机制造水平跟全球先进光刻机制造水平的差距越拉越大了？

客观来说，相较于全球光刻机制造水平而言，中国光刻机制造水平确实比较落后，但是这并不代表我们就没有希望赶超了。原因有二：

首先，越精密的光刻机研发难度越高。虽然ASML将会在年底交付高NA EUV极紫外光机，但是ASML想要研发更为精密的光刻机，难度会成倍上升。换而言之，ASML研发更为精密的光刻机所花费的时间也会更长，这就等于给到我们追赶的时间也会变长。

另外，我国在光刻机领域已经取得了一定的突破。虽然光刻机是一个非常精密的仪器，ASML工程师也曾放话挑衅我们称，就是把设计图纸给我们，我们也造不出光刻机。但是要知道，只要是人造的，我们迟早都能突破技术封锁。比如两弹一星、盾构机等。

据媒体近日消息，以金教授领头的科研小组所研发的EUV光刻机技术获吉林科技进步一等奖。从获奖名单上可以看到，光刻机的各个子系统赫然在列，这也意味着我国在极紫外光刻光学技术方面取得了一定的突破。

也就是说，我国离自研EUV光刻机更进了一步。其实我国成功自研EUV光刻机并不是痴人说梦，ASML CEO温彼得此前在劝导美方时就表示，全球的基础数学、物理定律都一样，中国研发出先进光刻机是早晚的事。

近日，温彼得再次强调，美方想在光刻机方面卡中国的“脖子”意义不大，因为14亿中国人中不乏聪明人，他们会找到我们没想到的解决方案，所以根本孤立不了中国。从温彼得几次的言论中都能看到他对于中国研发出国产先进光刻机的信心。

换个角度说，光刻机巨头的“掌门人”都不怀疑我们能够自研出先进国产光刻机，我们又有什么理由怀疑呢？所以ASML虽然发布了更为先进的高NA EUV光刻机，我们也与全球领先光刻机水平差距越拉越大，但是这并不意味着我们不能成为后起之秀。

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