众所周知，为了遏制中国半导体产业的发展，美西方无所不用其极。除了颁布《芯片法案》，全方位“卡脖”中国半导体外，还联合欧洲强国、日、韩等企业，共同“挤兑”中国芯片企业。

从芯片设计到芯片制造的各个环节，从芯片设计架构到芯片制造原材料，从光刻胶到光刻机等，全面“卡脖”，就是要让中国半导体原地踏步甚至不断倒退。不得不说，美西方的这个计划真的是绝，绝情的“绝”！

美西方的制裁也收获了一些成果，尤其在半导体上游支撑产业，半导体材料、半导体设备等，都是咱们比较弱势的领域，自给率相当低。以光刻机来说，当下的国产化率甚至不足1%，这就是为何ASML公司CEO会说出“即使公开图纸，你们也造不出”的底气来源，基本上，光刻机领域就被ASML公司以及尼康、索尼等所垄断了。

但落后不代表没机会，在美制裁的刺激下，我国成立了“大基金”，通过数千亿元的投入和支持，“国产替代”则称为中国半导体产业发展的主线任务。聚焦自给率较低、技术较落后的半导体材料和光刻机设备等领域，举国之力，高校、科研机构、企业等全力以赴，坚持技术创新，短短几年，也在不少领域实现了技术突破。

在光刻机领域，上海微电子已经实现了90nmArF光刻胶SSA600系列的出货，且南大光电、上海新阳以及彤城新材等企业在光刻胶这块也有了巨大进步。

南大光电作为国内光刻胶领域的领头羊企业，发布了2024年报，从这份数据来看，在各种外界不利因素的影响下，南大光电连续8年实现了正增长，营收、净利润都是如此。20204年的营收是23.52亿元，净利润是2.71亿元，而同比增幅分别是38.08%以及28.15%，增速喜人，细水长流才真稳。

值得一提的是，除了光刻胶之外，南大光电在前驱体材料领域，也具有很强的实力，早在2019年，在此领域深耕约20年的南大光电，其市占率就已经稳居全球第一，不仅实现了国产替代，其产品更是远销海外。2024年，南大光电的前驱体材料的产能达到了486.75吨，且成功助力了中芯国际、长江存储等国内晶圆企业。

至于光刻胶，南大光电主要聚焦ArF光刻胶的研发，目前已经有3款自研ArF光刻胶在下游客户通过认证，且年销量也突破了千万，逐渐实现全产业化。

总的来说，在芯片制造的各个环节和技术领域，中国科技企业均全力以赴，正在加快“国产替代”的进程，势不可挡了！尤其在成熟制程芯片产能方面，我国也交出了令全世界震惊的出色成绩单，2024年，我国的芯片出口额达到了1.14万亿元，首次突破万亿，基于此，中国也第一次超越了美国，成为全球最大的芯片出口国。

而这份耀眼成绩的背后，都是被美芯所“逼”，但一切都值得！需要时刻提醒的是，核心技术必须掌握在自己的手里，买不来更讨不来，坚持技术研发和科技创新，国产替代才是唯一实现独立自主的方式，继续加油吧！