如今，无论是先进制程芯片，还是成熟制程芯片，亦或者是更加先进，有望打破摩尔定律极限的先进封装芯片，其实都离不开光刻机，特别是高端的EUV光刻机。但是，这样重要的设备，由于美国对规则的修改，从此之后，在我国大陆再也不见EUV光刻机的身影。

但是如今，事情似乎出现了转机，阿斯麦尔全新一代光刻机似乎就要进入市场了。那么，这是否意味着，现有的EUV光刻机能实现对我国大陆地区的出货呢？在EUV光刻机方面，我国是否有希望能实现独立自主的国产化呢？

根据路透社2022年5月20日报道，阿斯麦尔目前正在制造新一代更加先进的EUV光刻机，到时候一台售价大约4亿美元。然后，当天路透社还援引阿斯麦尔公司内部高级管理人员的公开透露，新一代高数值孔径EUV光刻机的原型机将在2023年上半年制作完成，芯片供应商们有希望最早在2025年用上新一代高数值孔径EUV光刻机的量产机。

对于这则新消息，很多人可能又开始自嗨了，认为随着这台更先进的EUV光刻机落地，到时候不怎么先进的如今原版EUV光刻机就可以实现对我国大陆地区自由出货了。那么，事实上果真如此吗？

这次阿斯麦尔针对新一代EUV光刻机量产并且进入市场的时间进行了摊牌，应该也不意味着EUV光刻机就有希望对我国大陆地区进行自由出货。首先，2022年5月25日，美国商务部长雷蒙多出席了瑞士达沃斯世界论坛，在接受相关媒体采访的时候表示，美国精密高端芯片有高达70%都产自我国的台湾地区。

对于美国芯片这样的现状，雷蒙多直言“这并不安全。”看看，就算我国台湾地区没有违反美国修改后的规则，一向优先的美国都不放心。美国又怎么会放心我国大陆地区芯片的发展，估计也不太可能放开EUV光刻机对我国大陆的出口管制。

另外，2021年12月10日，哈佛大学肯尼迪学院Belfer科学和国际事务中心发表了一份最新报告。根据这份报告显示，未来十年，中国在半导体、人工智能等领域就算不会超越美国，可能也会逼近美国。

根据这份权威预测报告可知，我国未来在半导体领域还是有着巨大发展潜力，美国会放任我国冲击到美国半导体的伟大吗？因此，美国应该也不会让可以为我国半导体增强实力的EUV光刻机对我国大陆自由出货。

总之，在EUV光刻机方面，我国真的应该放弃幻想了。但是，单单放弃幻想是没用的，那么，未来我国是否有希望能够在EUV光刻机方面实现自力更生吗？

众所周知，在光刻机领域，目前有三大核心技术，分别是光源、双工作台和光学物镜。目前在这三个核心方面，在光源方面，根据央视新闻报道，我国国内首台高能同步辐射光源设备在北京已经进入了安装阶段。

在光学物镜方面，我国中科科美研制的透镜镀膜装置及纳米聚焦镜镀膜装置已经正式投入使用。在双工作台系统方面，早就在2019年被我国华卓精科突破。如今，我国基本攻下了EUV光刻机三大核心技术，那些次要的技术估计被国产化也是时间问题了。因此，我国未来未必没有希望在EUV光刻机方面实现自力更生。

另外。EUV光刻机本身就属于高端科技产品，光有技术其实也不够，还应该要有充足的，大量的资金，2022年2月28日，根据国家统计局发布的权威数据显示，2021年，我国的经济规模高达114.4万亿元人民币，不仅仅继续稳居全球第二大经济体的位置，而且和全球第一大经济体美国之间的差距缩小到5万亿元人民币。

从这份我国2021年GDP数据中可以看出，我国本身的资金实力还是很雄厚的，在有技术又有资金的情况下，我国在EUV光刻机方面未必不能实现自力更生。

最后，根据路透社报道，2022年1月19日，阿斯麦尔CEO温彼得在当天表示，我国不太可能复制出顶级的光刻技术，但也不是说绝对不可能，因为我国一定会尝试的。看样子，阿斯麦尔似乎也认为我国可能会实现EUV光刻机的国产化。

阿斯麦尔作为EUV光刻机领域的巨头，阿斯麦尔有这样的肯定，应该也意味着我国在EUV光刻机国产化的发展中，应该也具有一定程度上的潜力。因此，总的来说，未来我国在EUV光刻机领域，还是有希望能实现国产化，能实现自力更生的。

阿斯麦尔摊牌了，新一代新型更加先进的EUV光刻机可能即将就要在2025年落地，但是，这其实也并不意味着如今这款EUV光刻机就能够实现对我国的自由出货。我国想要EUV光刻机，终归还是要不断进行国产化，毕竟核心技术可是买不来的。