俄已正式对光刻机出手，华为或成为受益者之一，外媒：ASML做不到

芯片一直是国内的技术难点，自从华为和台积电不能合作之后，芯片的问题就变得越来越突出了。中芯公司虽然有生产芯片的实力，但却没有EUV光刻机的设备，也不是华为的专利。

国内的光刻机已经迫在眉睫，但还需要一段时间

虽然现在已经有了关于光刻机的消息，但想要在短期内取得突破性的进展，还真不是一件容易的事情。然而，让所有人都没有想到的是，光刻机技术的“去美化”，再次引起了人们的注意。

大家都知道，自从二月底以来，很多公司都已经断绝了俄本土市场的供应。其中，三星、台积电等芯片厂商，都已经退出了这次的合作。如此一来，国内的芯片生产就成为了一个大问题，光刻机也是如此。俄已经在光刻机上下了功夫。

俄开始攻击光刻机

据俄有关部门透露，他们正在研究一种新型的光刻机。甚至有人说，这台光刻机，并不是ASML公司的EUV光刻机，而是EUV光刻机。两者之间最大的区别，就是技术上的差距，俄研发的EUV光刻机，就是X射线技术，而不是光掩膜技术。

X射线光刻机是利用X光的波长在0.01-10nm之间，甚至比EUV的UV要短，因此它的分辨率也不会低于EUV，甚至更高。另外，光刻机还可以将不需要光掩膜的光刻机的成本降到最低，这也是这一类光刻机的最大优点。

对于这种情况，国外的人说，就算是ASML，也无法做到这一点。按照目前的数据，X射线光刻机还没有大规模的量产，所以X射线光刻机的效率，远远比不上ASML。因此，这款产品还没有普及开来。

但俄在X射线光刻机上，已经有了相当的技术储备，而无掩模光刻机的制造技术，也不算太差。所以，如果他们愿意投入更多的钱去研究，或许会有更好的发展。

华为的机会来了吗？

而X射线光刻机的研究，一旦能够在将来完成，对于华为而言，绝对是一件好事。毕竟这款光刻机与美企的技术无关，华为从中获利也是理所当然的。

这对华为来说，是一个很好的机会，一方面是国内的公司在研究光刻机，另一方面，俄公司也在研究X射线光刻机，让他们有了“去美化”的希望。

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