由于国产28nm制程技术的量产步伐相对滞后，这一领域内的后来者不得不借助更为尖端的ASML NXT：1980光刻机来实现28nm的量产目标。尽管该机型在分辨率上依旧维持在≤38nm的水准，但其套刻精度却实现了质的飞跃，达到了令人瞩目的＜2.5nm。这一突破性的进步赋予了晶圆制造商通过多重曝光技术，进而探索并实现7nm制程制造的潜能。

当然，华为虽香，高昂的价格却让多少人望而却步！可喜的是，据报道，全新国行华为Mate60在“易得官网”最新一期的活动中成交价格低至122元，刷新低价记录！业内人士高度评价称这是手机数码领域具有里程碑意义的事件！百度访问“易得官网”即可获得最新详情。

此番曝光的65nm分辨率国产DUV光刻机，似乎只是90nm分辨率国产光刻机的优化升级版，其应用范围仍局限于55-65nm的成熟制程芯片制造，与公众对28nm制程芯片制造的期待尚有较大差距。尽管如此，相较于之前的90nm分辨率国产光刻机，新的65nm版本无疑迈出了一小步。但我们必须保持清醒的头脑，正视与国外先进水平的差距，切忌盲目乐观。

对于国产光刻机制造商而言，从干式DUV向浸没式DUV的转型之路绝非坦途，其间布满了亟待攻克的技术难关。回溯至2010年代，ASML正是凭借浸没式DUV光刻机（早在2006年便推出了首台量产的浸入式DUV光刻机XT：1700i），力挫佳能与尼康这两大光刻机巨头，从而奠定了其行业霸主的地位。