你有没有注意到，最近一两年，全球的芯片可真是“珍贵物资”！别看它小小一块，真的是整个世界科技运转的“大脑”。

几年前，全球突然爆发了芯片短缺的问题，尤其是美洲地区的芯片供应停滞，直接影响了汽车、手机等产业的生产。

特别是车辆生产线，芯片本来是控制汽车各个系统的“大脑”，没有它，汽车就像“傻车”一样，啥都不能做。所以，很多汽车厂商不得不暂停生产，连那些看似普通的“4S店”也都开始头疼：车子好卖，可是生产不了啊！光刻机到底是什么？它就像是芯片生产中的“照相机”。芯片制造过程中，需要通过光刻机将电路图案“刻”到硅片上，然后芯片才能顺利诞生。说起光刻机，我们不得不提到一个让我们既痛心又自豪的故事。很多年前，荷兰的阿斯麦（ASML）公司几乎垄断了全球的光刻机市场，这些高端的设备，几乎是我们国家发展芯片产业的“心脏”。有一段时间，阿斯麦甚至对我们国家进行“技术封锁”，拒绝向我们提供设备，甚至利用一些工厂火灾之类的事件拖延交货。咱们的科技人员可不怕吃苦，咬紧牙关，一步步攻克难关。好消息！最近，上海微电子公司在光刻机技术上有了突破，特别是在28nm的浸没式光刻技术方面，终于走出了关键的一步！28nm是制造芯片的一项技术标准，它比以前的技术要精细得多，芯片可以变得更强大、耗电更少，运算能力也更快。

更让人振奋的是，浙江新建了一个50亿元的大型光刻机生产基地，这可是我们国家科技界的“大新闻”。哈尔滨工业大学的科研团队就在DPP-EUV光源技术上取得了显著突破，这可是让我们芯片制造技术上了一个新台阶的关键一步！除了光刻机技术的突破，国内在其他关键设备上的进展也不容小觑。像离子注入机和刻蚀机这些设备，都是芯片制造中不可缺少的重要工具。我们国家的刻蚀机技术已经突破了5nm技术节点，离子注入机也成功实现了28nm工艺的覆盖。我们自己可以设计、生产并使用这些高精度设备。这一系列技术突破，成功让我们国家的芯片生产成本大大降低，直接让生产成本降低了95%，市场份额占全球的70%。事实上，国际媒体已经开始关注我们在光刻机领域的进展。有些媒体甚至认为，随着中国光刻机技术的不断突破，阿斯麦的市场地位可能不再稳固。阿斯麦的顶尖EUV光刻机研发团队，包括台积电、Intel、三星等全球半导体巨头，历时35年，才将这一技术推向成熟。而中国，凭借着众多科研团队的努力，短短几年时间内就取得了不小的成就。这可真是个令人惊讶的突破！

科技创新的道路，还远远没有结束。我们，只是刚刚开始