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前言

光刻机，这个被誉为“芯片之母”的高精尖设备，一直是全球科技竞争的焦点。

而在光刻机方面，我国也是一直处于被人“卡脖子”的情况。

但在2024年9月，我国首个国产的光刻机问世了！

也就是在这个让人自豪和激动万分的时刻，一位复旦大学的某位教授对于国产光刻机所作出的评价，在社会上引发了广泛且热烈的讨论。

他直言不讳地指出：与荷兰的光刻机技术相比，中国仍需约二十年的时间去追赶，差距尚在。

那么，国产光刻机究竟差距在哪里了呢？

国产光刻机的现状与挑战

复旦大学政治系沈逸教授他毫不避讳地指出，国产光刻机与ASML的产品相比，差不多就是人家10年、20年前的水平。

有人认为沈教授的评价过于悲观，有人则认为这是一针见血的清醒认识。

但不可否认的是，这番话确实道出了中国光刻机发展的现状。

当前，国产光刻机仍多为干式光刻机，而 ASML 早已于浸没式光刻机领域称雄。其技术领先优势显著，占领着这一领域的鳌头之位。

然而，事情远非表象所呈现的那般简单，其内里往往蕴含着错综复杂的因素，并非一眼就能洞悉。

沈教授接着说，虽然技术差距明显，但我们用了多长时间就能搞出这样的成果，这才是真正值得骄傲的地方。

这句话让我们不禁想到，在重重封锁和制裁下，中国光刻机产业能有今天的成就，确实来之不易。

让我们将时光回溯至 2002 年，于岁月长河中探寻那段已然远去但仍值得铭记的时光。

那一年，上海微电子装备有限公司应时而生，自此开启了中国自主研发光刻机的漫长征程。其步伐坚定，在探索中不断前行。

当时的起点很低，连最基础的i线光刻机都无法生产。

然而，正是从近乎于零的起点出发，中国的光刻机产业毅然踏上了艰难的追赶征程。

经过近20年的努力，中国终于在2018年研制出了90纳米光刻机，这在当时被视为一个重大突破。

虽然与国际先进水平相比还有不小差距，但已经可以满足部分国内市场需求。

这个成果的意义不仅仅在于技术本身，更重要的是证明了中国有能力自主研发高端光刻机。

而在2024年的9月，我国光刻机制造取得了一个最新的消息。

信息来源：观察者网2024-09-14 ——《工信部推广国产氟化氩光刻机：分辨率≤65nm》的报道

中国已经成功研制出65纳米光刻机，分辨率≤65nm，套刻精度≤8nm。

这昭示着，短短数年，我们已然再度大幅向前迈进，此举意义非凡，彰显着我们不懈的进取与成长。

虽与 ASML 最新的极紫外（EUV）光刻机尚存差距，但其进步之迅猛，着实令人鼓舞不已。

然而，光刻机的发展不仅仅是技术问题，更涉及到整个产业链的协同。

ASML之所以能够在光刻机领域独占鳌头，除了其强大的技术实力外，还得益于其完善的供应链体系。

当下，中国光刻机产业正遭遇一大严峻挑战，此乃其发展道路上的一道难关，需全力攻克，以实现产业的突破与飞跃。

全球光刻机市场格局与竞争态势

在探讨中国光刻机产业的未来之前，我们有必要先了解一下全球光刻机市场的格局。

毋庸置疑，在所属领域，荷兰的 ASML 公司堪称王者，其霸主地位坚如磐石，难以撼动。

它不仅垄断了最先进的极紫外（EUV）光刻机市场，在深紫外（DUV）光刻机领域也占据了绝对优势。

有趣的是，ASML 的成就竟使其置身于两难之境。其辉煌的背后，是难以抉择的困境，这着实耐人寻味。

一方面，中国市场于 ASML 而言举足轻重，其重要性不言而喻，这一市场的需求与潜力，对 ASML 的发展有着关键影响。

2023年第一季度，ASML来自中国大陆的营收占比高达49%，远超其他地区。

信息来源：观察者网（2024-04-19）——《芯片低谷中，中国大陆撑起光刻机巨头营收》的报道

另一方面，美国政府出于地缘政治考虑，不断施压要求ASML限制对华出口。

然而，国际专家们对中国光刻机产业的未来看法并不一致。

有人认为，美国的限制措施会刺激中国加大研发投入，可能在5到10年内追上ASML的技术水平。

也有人持相反观点，认为没有全球化的产业链支持，中国很难在短期内突破技术瓶颈。

当国际市场局势错综复杂之时，中国光刻机产业未来的发展路径究竟走向何方？这一问题引人深思。

此问题不单涉及中国半导体产业的发展，更乃衡量国家科技实力的关键标识，对其影响重大，意义深远。

首先需明了，发展光刻机产业乃长期艰巨之重任。其道路漫漫，需我们抱定决心，不懈努力，方可有所突破，达至成功之境。

其不但需巨额资金的投入，而且更要长期致力于人才的培育以及技术的积淀，方可达成目标。

显然，中国政府已明晰此点。他们对这种状况有着清晰且深刻的认识，展现出高瞻远瞩的洞察力。

近年来，国家不断加大对光刻机领域的投资力度，并出台了一系列支持政策。

例如，2020年，中国科技部将“集成电路装备”列为国家重点研发计划之一，投入大量资金支持相关研究。

信息来源： 人民网2021-02-26——《科技部：国家重点研发计划将支持集成电路自主创新》的报道

这些政策扶持，成为中国光刻机产业发展的坚实后盾，给予其强劲支撑，助力产业不断前行，迈向新的高峰。

然而，我们需保持清醒的认知，仅依赖政策支持，这远远无法满足需求，真正的突破，还需要整个产业链的协同努力。

同时，我们也不能忽视人才培养的重要性。

光刻机是一个跨学科的领域，需要光学、机械、电子、软件等多个领域的专业人才。

因此，加强相关学科的教育和人才培养，对于中国光刻机产业的长远发展至关重要。

文| 论芸轩

编辑 | 论芸轩

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