近日，国内高端新材料公司晶瑞电材发布公告称，其子公司瑞红苏州拟引入战略投资者中国石化旗下公司中国石化集团资本有限公司（下称“中石化资本”），通过向中石化资本定向发行股票，募集资金人民币8.5亿元。
这笔资金将用于瑞红苏州先进制程工程工艺半导体光刻胶及配套试剂业务的研发、采购、生产和销售及相关投资。
公告中显示，本次发行完成之后，中石化资本将持有瑞红苏州27.88%的股份，并成为该公司第二大股东。
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中国石化的“高端”投资标的官网显示，瑞红苏州成立于1993年，主要生产光刻胶及其配套试剂产品。
其产品主要应用于FPD（平板显示器）、LED（发光二极管）、IC（微电路、微芯片或者芯片）等相关电子行业。
瑞红苏州在2018年完成了国家重大科技项目——02专项“i线光刻胶产品开发及产业化”项目。
至今为止，瑞红苏州已经规模生产光刻胶30年，拥有着紫外宽谱、g线（436nm）、i线（365nm）、KrF（248nm）、ArF（193nm）全系列光刻机测试实验平台。
这些光刻胶生产线和测试实验平台已经达到国际先进水平。瑞红苏州也是推动光刻胶实现国产化的重要企业。
在本次发行交易之前，晶瑞电材及其全资子公司合计持有瑞红苏州89.90%的股权。
交易之后，晶瑞电材持有的股权会降至64.84%，中国石化持有的股权会达到27.88%。中国石化将成为瑞红苏州的第二大股东。
针对本次发行交易，瑞红苏州表示本次发行募集资金8.5亿元将全部用于光刻胶及配套试剂业务，在未来将加大光刻胶的研发投入，与中国石化及其关联方围绕高端光刻胶及其原材料加强研发合作。
据了解，本次交易之前，瑞红苏州在10月25日完成了未公开发行，合计向14家机构发行股票2372.48万股，募集资金总额约为2亿元。
据半年报信息，瑞红苏州在建光刻胶相关项目包含集成电路制造用高端光刻胶研发项目、配套KrF光刻胶测试线技改项目、5吨/年集成电路制造用ArF高端光刻胶技改项目等。
其中，集成电路制造用高端光刻胶研发项目的工程进度为37.11%，配套KrF光刻胶测试线技改项目94.95%。
中国石化作为一家国有的石油化工巨头，在资金、化工新材料研发、销售等各方面具有强大的综合实力。中国石化的加入将有助于加强瑞红苏州在半导体光刻胶领域的研发、生产和销售能力，提升瑞红苏州的市场竞争力。
同时，这也有助于提高晶瑞电材的融资能力和财务稳健性。
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高端材料：光刻胶光刻胶是我国芯片产业面临的最大难题。
为什么这么说呢？因为制造芯片即使没有国际最先进的EUV光刻机，使用DUV光刻机也可以，实在不济二手光刻机也可以用。
但是，制造芯片需要的光刻胶只有半年保质期，不能通过囤货来解决卡脖子。一旦没有了光刻胶，那光刻机也就跟废铁一样。
这种被卡住我国芯片产业脖子的材料到底是什么呢？
光刻胶又称为光致抗蚀剂，由感光树脂、增感剂和溶剂三种主要成分组成，是一种感光材料。
其中的感光成分在光的照射下会发生化学变化，从而引起溶解速率的改变。
这种材料通常被用于微电子制造的光刻工艺中。在光刻工艺中，光刻胶被涂覆在硅片表面，然后通过照射光线来形成图案。这些图案可以用于制造微处理器、光电子学器件、微型传感器、生物芯片等微型器件。
光刻胶有很多种，可以按照形成的图像、曝光光源、应用的领域、光源波长等几种类型来分类。
按照应用领域区分，光刻胶可以分成PCB用光刻胶、液晶显示器用光刻胶、半导体用光刻胶。
按照光源波长可以分成G线（436nm）/I线（365nm）光刻胶、KrF光刻胶（248nm）、ArF光刻胶（193nm）、EUV光刻胶（13.5nm）。按照光源波长，从长到短国产化率依次降低。
其中，半导体光刻胶是技术壁垒最高的，国产化率很低，基本依靠进口。
目前，G线、I线光刻胶国产化率约为10%，KrF和ArF光刻胶自给率仅1%左右。所以，我国的半导体光刻胶基本是要从国外进口。
全球半导体光刻胶领域主要被日本JSR、TOK、住友化学、信越化学、富士材料及美国陶氏化学等头部厂商垄断，海外厂商掌握近90%的半导体光刻胶市场。
日本JSR是全球最大、技术最领先的光刻胶龙头企业，其ArF高端光刻胶市场占有率全球第一，也是唯一有能力量产EUV光刻胶的企业，而日本TOK是全球最大的G线/I线、KrF光刻胶供应商。
高端光刻胶是生产28nm、14nm乃至10nm以下制程的关键，长期以来更是被国外巨头垄断。
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突破光刻胶在5G、物联网、智能化、数字化大规模发展的洪流之下，全球半导体需求逐渐提升。
全球半导体销售额自2019年逐步增加，2022年达到6014.90亿美元。同期，国内半导体销售额由145.99亿元提升至185.75亿美元。
中国对半导体的需求逐步上升的前提下，进口又增加多重难关。2022年10月7日，美国商务部工业与安全局（BIS）公布了《对向中国出口的先进计算和半导体制造物项实施新的出口管制》。其对中国半导体产业的制裁再次升级。
2023年3月，荷兰加入美国对中国的半导体制裁，并陆续出台相关政策。3月31日，日本政府宣布将限制23种半导体制造设备的出口。
国内芯片产业面临的压力逐渐增大。为了保障国内产业持续健康发展，国产光刻胶的研发和应用已经迫在眉睫。
我国对光刻胶及专用化学品的研究起步较晚，但国家层面非常重视。从“六五计划”至今，国家已经将光刻胶列为国家高新技术计划、国家重大科技项目。
2019年，光刻胶入选《重点新材料首批次应用示范指导目录(2019版)》，同时国务院、发改委等部门相继出台多份支持性文件，为光刻胶技术突破、产业发展提供大方向上的政策引导和保障。
政策支持加上光刻胶市场持续放大，国内逐渐诞生一批光刻胶企业。比如彤程新材、晶瑞电材、上海新阳、华懋科技、南大光电等。
光刻胶相关企业在政策的引领下不断的加码投资、创新研发。据彤程新材半年报显示，彤程新材在2023年将继续加大在半导体光刻胶方面的研发投入，新增研发48项。晶瑞电材则通过发行股票募资研发更加先进的光刻胶。
目前，国内在光刻胶领域已经取得了里程碑式的突破。彤程新材（KrF光刻胶批量供应、具备ArF部分型号的开发和具备量产能力），晶瑞电材（g/i线批量供应多年，KrF已通过测试）、华懋科技（拥有光刻胶全产业链能力）、上海新阳（ KrF形成销售，ArF研发进展顺利）.......
随着光刻胶领域的突破不断出现，国产化已经是大势所趋。打破最后一到屏障或许就在未来的某一天。
