前不久，华为正式对外宣布，华为Mate70系列所搭载的麒麟9020芯片国产化率达到了100％。知情人爆料，麒麟9020芯片虽然采用的是7nm制程工艺，但实际表现超越了高通骁龙8+芯片。

这意味着，国内已经搭建出一条可以生产7nm制程工艺芯片的产业链。

众所周知，近年来，我国科技取得了巨大的发展，尤其是5G时代的到来，通信等行业的话语权被我们掌握，这让感受到威胁美方坐立不安，联合日、荷等盟友加强对大陆企业光刻机的出口管控。

在他们看来，只要锁死了光刻机，国产芯片就无法突破到7nm，不得不遵守他们制定的规矩，实现经济的“无害繁荣”。

可让美方没想到的是，华为等中企在没有中高端光刻机的情况下，通过小芯片和超线程等创新技术实现“突围”。对此，ASML公司总裁在公开场合表示，十年之后，ASML公司将逐步失去大陆光刻机市场。

另外，ASML公司总裁突然话锋一转，表示大陆企业虽然进步很大，但与台积电、三星和英特尔还存在着10-15年的差距，如果它们能得到ASML公司EUV光刻机的话，这个差距将在短时间内得到抹平。

他之所以在转折中重点突出EUV光刻机，司马昭之心路人皆知。ASML公司是当今世界上唯一能够制造EUV光刻机的企业，如果他承认小芯片和超线程等创新技术可以实现顶尖芯片的性能，那无疑是砸自己的“饭碗”。毕竟一台EUV光刻机的售价高达数亿美元，且在使用的过程中要投入巨额资金进行维护。

在芯片制造技术领域，中芯国际并不比台积电、三星等老牌晶圆代工巨头逊色，唯一的差距就是EUV光刻机。在中芯国际创新技术取得巨大突破的当下，ASML公司着重渲染EUV光刻机在高端芯片制造过程中具“不可替代性”，也无可厚非。

可让ASML懵圈的是，哈工大突然传出一条重磅消息：樊继壮教授团队研发的“放电等离子体极紫外光刻光源”项目，获得科技大赛一等奖！该项目技术能够为光刻机提供中心波长为13.5nm的极紫外光，解决了国产EUV光刻机研发道路上的一大拦路虎，这对正处于爬坡阶段的国产光刻机来说，意义重大。

此外，长春光机所也在两年前成功掌握通过激光等离子的方式为光刻机提供EUV光源技术。

也就是说，国产EUV光刻机的研发非常顺利，且在EUV光源光源方面有两套方案！

ASML公司光刻机工程师曾断言，即便是给我们EUV光刻机图纸也造不出来EUV光刻机，可长春光机所、哈工大的接连突破，再一次证明，没有什么可以阻挡东方醒狮前进的脚步。

哈工大突破EUV光源技术的消息一经传出，在西方各界引起了巨大的轰动，不少外媒纷纷发文表示，“中国芯”的崛起已成定局，用不了几年，美西方耗时几十年打造的芯片壁垒就会被全面打破，当下最好的选择就是坚持“全球化”。

如果美西方坚持“全球化”是顶级阴谋，国内部分企业很有可能为了短期利益放弃核心技术的自研，进而降低我们科技的整体实力。可事实上，美西方并未打算这么做！

“芯片断供”是一把双刃剑，虽然短时间内会对我们的科技产业发展造成影响，但只要我们解决了卡脖子技术，实现芯片的自给自足，最后损失的还是西方半导体企业，他们的芯片将会被打成白菜价，甚至还有可能没人要！同意的请点赞！