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导读：打脸来的真快！国内光刻机市场全面发展，ASML很现实的改口了！

大家都知道，中国在半导体芯片这方面发展得晚，基础也差。这些年，国外的科技企业老是对咱们进行相关技术的封锁，这就让国内科技企业在芯片领域的发展一直比西方发达国家落后。得说一下，半导体芯片领域搞研发和生产都得投好多钱，研发时间还长，短时间里看不到啥收益。所以这些年，国内的科技企业一直不太愿意下大力气去研发和生产国产芯片。在“造不如买”这种想法的影响下，国内科技企业一直靠着从国外进口芯片来发展，这就导致国产科技企业的发展很容易被别人限制！

光刻机十分重要，研发难度大

华为被打压之后，好多国产科技企业才明白，只有弄出属于咱们自己的芯片产业链，国内科技企业的发展才不会被人卡住脖子。所以这最近几年，国内市场上开始兴起一股研发和生产国产芯片的热潮。要解决芯片的生产难题，那就得先解决光刻机的生产问题。只有有了先进的 EUV 光刻机，才能生产出 7nm 工艺以下的半导体芯片！

长久以来，全球最先进的 EUV 光刻机一直被荷兰的 ASML 公司垄断着。咱中国刚表示想进入光刻机领域发展的时候，ASML 公司根本瞧不上，还说：就算把 EUV 光刻机的图纸公开，咱们也造不出先进的光刻机。其实，ASML 公司这话也不是没道理，一台先进的 EUV 光刻机有十万多个零部件，供应商来自全球各地五千多个企业。中国想靠自己研发光刻机，明显难度挺大的。不过中国在科技领域发展可从来没认过输，既然国外能研发出光刻机，那咱们也肯定能！

国内光刻机市场全面发展

在国内市场上，咱们国家的清华大学、中科院等机构都开始搞光刻机的研发了，而且咱们国家还举全国之力去研发芯片。在 2020 年，国内新增加的跟半导体芯片有关的企业超过了两万多家。所以咱们在芯片和光刻机领域的研发速度还是挺快的。听说，上海微电子所研发的 28nm 光刻机已经生产出来了。在高端光刻机领域，科研团队已经研发出了 EUV 最关键的光源技术，而在高端光刻设备的分辨率方面，也研究出了咱们自己的 OPC 技术。可以说现在国内的光刻机市场正在全面发展呢！

没想到“打脸”来的这么快

咱们国家在光刻机领域发展得这么快，ASML 公司没想到“打脸”来得这么快，很快就改口了。ASML 公司说：接下来要加大在中国市场的发展力度，而且已经卖了 11 台光刻机到中国市场。不得不说，ASML 公司这态度变得还挺快的。这主要是因为中国市场是全球最大的光刻机市场，如果咱们研发出了自己的国产光刻机，那 ASML 公司不但在光刻机市场上会多一个强大的对手，还会丢掉全球最大的光刻机市场，这肯定是 ASML 公司不愿意看到的！

ASML很现实的改口了，国内不能抱有任何幻想

在现实面前，ASML 公司也只好改口，改变态度了。在过去这几十年，就算中国是全球最大的光刻机和半导体芯片市场，可 ASML 公司一直都不重视在中国市场的发展，就只在中国深圳有一个办事处。但自从中国开始自己研究芯片和光刻机之后，ASML 公司很快就改变发展战略了，不光加快在中国市场的布局，还老是对中国市场表示友好。但不管咋样，国内可不能再有啥幻想了，只有咱们实实在在地自主研发出国产光刻机，才能打破国外的垄断！