近期国产光刻机领域的一个重要突破是哈工大官方官宣搞定13.5纳米极紫外光源，但这个消息出来这么久了，美国、ASML与台积电一直保持沉默，但近期新加坡毕盛资产管理创始人王国辉在彭博电视台表态看好中芯国际，认为其将利用本土优势在全球市场与台积电竞争，并有望在市值上追平台积电。

近几年来，美国持续加码打压我们的芯片产业，从逻辑芯片到存储芯片，再到AI芯片，不仅独自设限，还拉拢日本和荷兰等盟友一起来搞限制。

他们不光是限制芯片，设备、材料、软件等一应俱全，你说狠不狠？

美国估计是想着只要掐住我们芯片发展的脖子，就能让我们在高端芯片制造上彻底落后。但没想到的是，国产EUV技术突然传来喜讯，中芯国际也因此迎来发展新机遇。

虽然美国一门心思想全面封锁，但芯片制造涉及的设备、材料和软件实在是多得很，想全盘封锁几乎不可能。于是，美国干脆锁定了芯片制造过程中最关键的装备——那就是高端的EUV光刻机。

新加坡投资大佬王国辉最近放言说，未来高端芯片的研发不会再是西方国家的独角戏，东方大国有那么三大杀手锏，能让他们抢先一步。

王国辉在社交平台上这么说的，东方大国有14亿人口，每年还有上千万优秀大学生毕业，这人才池子深得吓人。

尤其在教育方面，东方大国能把印度甩出几条街，顶尖大学出来的高材生数量也是其他国家比不了的。

作为世界第二大经济体，东方大国不仅钱多到可以在重点领域大把撒钱，还特别能集中力量干大事。不管是政策还是资金支持，都足以给芯片研发提供强力的后盾。

说起全球最猛的芯片代工厂，大家第一个反应肯定是台积电，技术牛，产能大，业绩也是杠杠的。

但王国辉敢打赌，中芯国际迟早有一天能赶超台积电。现在看他们还差点意思，但王国辉觉得中芯国际有三板斧：第一，钱多得很，投资不手软；第二，市场需求大得惊人，家大业大；第三，人才池子深，科技精英多。

王国辉就这么说，这三样东西扛着，中芯国际不愁没出息。

他说，中芯国际肯定能赶上乃至超过台积电，立在芯片制造这块地头的最前面。

说到中芯国际追赶台积电的市值，王国辉分析出了四个硬核点位：

钱的力量：芯片制造这活儿，光说资本投入就得100亿美元起跳，中芯国际背后有国家的支持，资金充足，敢花敢折腾。

人才池：咱们国家每年那是500万理工科毕业生出炉，供应中芯国际的技术人才绰绰有余。

市场护城河：国内市场本来就有一定的保护壁垒，中芯国际在家门口就能吃得饱饱的，不用太依赖棘手的西方市场。

技术独立：只要有一天咱们自己人搞出国产EUV光刻机，那全球芯片的布局就得重写，这芯片战争可能就能画上句号了。

王国辉觉得，这四个点拉满了，中芯国际迟早能追上甚至超过台积电！

改文，大白话一点：哈工大的赵永蓬教授和他的团队在EUV光刻光源上可是搞了个大新闻！这个项目叫“放电等离子体EUV光刻光源”，成本低、体积小还挺给力的，效率也不错。虽说到商用还得再熬熬，但至少给咱们指了个明路，说明咱也能玩高科技。

与此同时，台积电那边不甘落后，跟英伟达合作弄了个炫酷的玩意儿，一个基于光子学的实验芯片。兄弟们，这不是在拍科幻片，他们真的用光来传数据了，听着都觉得未来感爆棚，科技的速度就是快如闪电！

中芯国际要翻盘挑战台积电，真的不是件容易的事。美国、日本和荷兰这三个家伙联手搞芯片设备限制，想到2026年之前，这设备短缺的问题可能还是个大绊脚石。王国辉虽然喊得响，但他心里也清楚，这条路得慢慢来，短期内想看到效果还真是难。

而台积电那边活儿也不少，他们和英伟达搞在一起，折腾出了个基于光子学的芯片原型。这技术用光来传输数据，不仅传输速度快，而且能耗低，巧妙地突破了摩尔定律的限制。这手法太犀利了，台积电这操作确实让他们在芯片行业保持领先。

新加坡APS创始人王国辉在接受彭博社采访时说，中芯国际是中国芯片制造行业的核心力量，这家公司完全有机会借助自身优势，超越台积电的市值。他还提到，虽然中国目前无法获得ASML的EUV光刻机，但只要有一家中国企业能成功开发出国产EUV光刻机，当前的芯片战争就会被彻底改写。

王国辉的观点一针见血，不仅道出了中国半导体产业当前的困境，还给未来的发展指明了方向。他承认，没有EUV光刻机，中国在高端芯片制造上一定会遇到瓶颈，这将带来巨大的挑战，也很难与国际先进水平直接抗衡。

一场关于芯片技术的暗战正在悄然上演，比华为麒麟9020与8000A还要厉害的威胁正从阴影中逐渐显露。如果不是哈尔滨工业大学（哈工大）坚决把13.5纳米极紫外光技术的重大突破公开，我们可能还在黑暗中摸索！

想当年，荷兰光刻机霸主ASML的头头还在那儿得意洋洋，说中国芯片技术落后西方整整15年，美国还给EUV光刻机下了禁运令，让他们更是信心爆棚，甚至吹牛说，就算把设计图纸白送给中国，中国也造不出来这种光刻机，因为里面那些精密的光学元件多得是数不清，复杂得很。

哈工大大展神威，在EUV光源技术上弄出个大突破，成功搞定了13.5纳米的极紫外光，还拿下了省部级一等奖。这技术，可不是闹着玩的，直接能用来造7nm和5nm的顶尖芯片，这下咱们可以摆脱欧美高端半导体的技术封锁了。

你知道吗，EUV光源可是光刻机里头最核心的玩意儿，关键极了！还记得荷兰ASML的老大2019年那句话吗？说就算给咱们全套图纸，咱们也造不出来光刻机。

这下好了，哈工大带头的国内高校群英，不仅在EUV光源上取得突破，还一直在技术创新上使劲，真是为国争光！

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