中国海关数据显示，2023年12月，中国大陆从荷兰进口光刻设备金额高达11亿美元，同比暴增1000%，大幅超过10月的6.7亿美元，和11月的8.2亿美元。

全年进口半导体设备总额也接近400亿美元。

有网友就忍不住问，大批量进口光刻机，是因为国产光刻机没希望了吗？

芯片的种类和制程非常的繁杂，因为使用场景不同，芯片的工艺制程差距是很大的。

使用在导弹、卫星上的芯片，要求具备更高的可靠性、安全性和抗辐射性，但是性能方面要求不高，所以普遍为55nm、60nm以上的工艺制程。

使用在智能手机上的芯片，要求高性能、低功耗、同时还要具备逻辑、AI、通讯等多种功能，集成了CPU、GPU、ISP、NPU，所以普遍为7nm以下的工艺制程。

而国产光刻机能够量产、且商业化的只有上海微电子的600系列光刻机。

这类光刻机可以满足90nm、110nm、280nm的光刻需求，多重曝光后可以制造55nm芯片，但是良品率会降低，漏电率也会提升。比较适合于航空航天、工业工控等对制程要求不高的芯片场景。

我们日常使用的手机芯片、电脑CPU、AI芯片，则需要更精密的光刻机，能够满足条件的只有ASML。

ASML是荷兰的企业，成立于1984年，是全球光刻机龙头，市场份额高达85%，公司拥有G线、I线、KrF、ArF、ArFi、EUV 6种类型的光刻机。

我们可以看到，ArFi光刻机，也就是我们常说的浸润式DUV光刻机，多重曝光后可以制造7nm芯片。华为的麒麟990、麒麟9000S都是采用了这类光刻机制造的。

EUV光刻机是目前实现商用的最精密的光刻机，可以制造7nm以下的芯片，华为的麒麟9000、苹果的A16、A17，高通的8Gen1、8Gen2都采用了这类光刻设备。

ASML最近又推出了一款High NA（高数值孔径）EUV光刻机。普通EUV光刻机数值孔径在0.33，分辨率为13nm，能够制造5nm及3nm芯片。最新的高数值孔径EUV光刻机，数值孔径为0.55，分辨率为8nm，可以制造2nm、1nm芯片。

简单来说，ASML的光刻机可以满足所有场景的芯片的需求。

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这还不是最重要的，最重要的是ASML掌控着全球90%以上浸润式DUV光刻机、100%的EUV光刻机。

芯片制造厂商，但凡是你能叫上名字来的，代工厂商：台积电、三星、格芯、联电、中芯国际；IDM厂商：英特尔、三星、SK海力士、美光、长江存储，无一例外都在使用ASML的光刻机。

其他的设备厂商也积极和ASML配套，使整个光刻环节更加高效、芯片良品率也更高。

因此，在国产光刻机无法满足现有的芯片制造工艺时，购买ASML的光刻机不失为一种策略。

2023年6月30日，荷兰出台了先进半导体设备出口管制新条例，该条例规定未经许可，禁止从荷兰出口部分浸润式光刻机，条例于2023年9月1日实施，因特殊原因后调整至2024年1月1日。

这是在继EUV光刻机管控之后，又一次更加严苛的管控。

信息显示，ASML浸润式光刻机包括1980Di、2000i、2050i及2100i四款，分辨力都小于38nm，受到出口限制的为2050i和2100i。

2050i，2100i基本上可以视作当前最先进的DUV光刻机，广泛应用于28nm、14nm、10nm、7nm制程的芯片，理论上也可以制造5nm芯片。

1980Di是初代DUV光刻机，10年前的老设备，可以制造10nm芯片，系统正常运行时间只有定值的97%。

尽管台积电曾经使用此款光刻机制造出7nm芯片。但是，台积电的工艺制程我们都知道，水分很大，它的7nm可能还不如英特尔的10nm。

因此，大多数晶圆厂使用1980Di光刻机主要生产14nm及以上工艺芯片，很少使用它生产7nm芯片。

2050i对应的是亚7nm芯片，以及高级DRAM芯片，这个亚7nm可能也就是10nm左右。但是在缺少核心光刻设备时，恐怕也要用来制造7nm芯片。

简单来说，荷兰的光刻机出口限制，就是为了阻止我们获取14nm以下的逻辑芯片，高端DRAM芯片，以及128层以上的NAND Flash。

涉及的使用场景包括智能手机、个人PC、AI芯片、以及对应的存储领域。

尽管短期内不会对我们的军事、工业产生影响，但是对我们高科技领域影响非常大。

高新科技是强国之间角逐的主要阵地，你比如说AI，被誉为第四次工业革命，它带来的是翻天覆地的变化，一旦错失良机，后果不堪设想。

也有分析师认为，光刻机的限制，是对华为等中国科技巨头的制裁。但是，其目的是一样的就是为了限制高新科技的发展。

所以，我们必须要破局，要研发国产光刻机。

国产光刻机一直是国家的机密，公开信息很少，再加上我们大量囤购进口光刻设备，以至于很多网友认为，国产光刻机出问题了。

其实，并非如此。

早在2022年时，就有官方背景的媒体报道，上海微电子28nm光刻机获得重大突破，将会于2023年交付企业，同时也肯定了中芯国际、华虹半导体在芯片代工领域的进步。

按照时间节点推算，28nm光刻机至少完成了首轮测试，现在处于第二、第三测试环节，用不了多久，就会与大家见面。

公开信息显示，28nm光刻机的核心部件均为国产。

光源由北京科益虹源打造，和ASML一样，都采用了193nm深紫外光；光学镜片由国望光学负责，工艺方面初步达到了28nm光刻机的要求，但与德国蔡司差距巨大。

华卓精科负责双工作台，背后由清华大学和华为提供技术支持。

启尔机电负责浸没系统，温度稳定性误差达到了0.001度，符合国际先进水准，整体实力仅次于ASML和日本尼康。

同时，国产EUV光刻机也在加大研发力度。

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2023年，ASML总裁温宁克访华时，中科院院长就视察了长春光机所，对国产EUV系统给予了高度肯定。

此举还一度惹恼了温宁可，称中国研发先进光刻机，是破坏全球产业链，将导致全世界的芯片产业链陷入危机。

领导视察+对手乱咬，这说明，国产EUV光刻机攻关速度非常快，触及到了真正的核心技术。

苏联专家和美国总统说，“中国人造不出原子弹”；结果我们拥有了原子弹和氢弹；

美国前防长说“中国造不出第五代战斗机”；结果我们有了歼20；

台积电的张忠谋说，“大陆就算花10万亿，也造不出高端芯片”；结果我们有了麒麟9000S；

ASML说给“中国人图纸，也造不出光刻机”；不知道这话还算不算数？如果算，那么很快ASML就要被打脸了。

我们进口荷兰光刻机，是为了扩大产能，确保自身的需求，同时减少进口芯片额度。但是，国产光刻机的研发，从来也没有放弃，并且研发进度越来越快，相信不久就会传来好消息。

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