近年来，国产替代在各领域呈现出加速发展的态势。以半导体为例，随着上游设备与材料环节的关键技术突破，国内晶圆厂采购国产设备和材料的意愿上升。

预计2025年，半导体国产化率将达到50%。这一趋势不仅限于半导体行业，其他行业也在积极探索国产替代的可能性。

光刻机作为半导体制造的核心设备，其概念股的异动引发了市场对半导体行业发展的关注。这一轮上涨背后，既有行业技术突破的推动，也有市场对政策支持的预期。

从行业角度看，光刻机技术的国产化进程正在加速，相关企业研发投入持续增加。政策层面，国家对半导体产业的支持力度不断加大，也为行业发展提供了有力保障。

展望未来，随着半导体市场需求的持续增长，光刻机概念股有望继续保持活跃。

通过深度的复盘操作，对整个半导体-光刻机行业的研报进行了查阅，从而为大家筛选出了最正宗的6家，供大家研究参考。

凯美特气：控股子公司凯美特电子特种稀有气体有限公司光刻气产品获得ASML子公司Cymer公司合格供应商认证。

新莱应材：光刻机的相关工艺需要在超高真空以及特殊气体的条件下完成，公司真空产品的AdvanTorr品牌以及气体产品的NanoPure品牌均可以应用到光刻机的设备中，公司的客户中已经包含光刻机设备的制造商。

国风新材：公司与中国科学技术大学先进技术研究院签署了《中国科学技术大学先进技术研究院与安徽国风塑业股份有限公司共建中科大先研院-国风塑业新型显示与集成电路 PI 材料联合实验室合作协议》，决定共同建立“中科大先研院-国风塑业新型显示与集成电路 PI 材料联合实验室”。双方依托联合实验室，充分发挥双方在资源、技术、研发和转化生产方面的优势，共同开展柔性衬底 PI 浆料、热塑性聚酰亚胺（TPI）复合膜、光敏聚酰亚胺（PSPI）光刻胶的研究工作。

西陇科学：公司目前生产的产品包含光刻胶配套的试剂如剥离液、显影液、蚀刻液、清洗液等。

飞凯材料：目前公司光刻胶产品主要有两类，第一类主要是应用在面板领域的正性光刻胶和负性光刻胶产品，当下两者已形成稳定营收；第二类是应用于半导体领域的i-line光刻胶及KrF光刻配套Barc材料光刻胶，其中i-line光刻胶和Barc光刻胶都已经形成少量销售。

高盟新材：公司参股的北京科华微电子材料有限公司有供货给中芯国际，但公司目前持有的北京科华股权只有3.6698%。北京科华目前是国内唯一拥有荷兰ASML光刻机的已生产光刻胶并供货的光刻胶公司。

股市有风险，投资需谨慎，以上内容仅供学习参考，所涉及标的不作推荐，据此买卖，风险自负。