在芯片封锁的当下，中国必须自主掌握芯片制造技术，而想要造出先进的芯片，就绕不开EUV光刻机，但受限于美国制裁，中企无法从荷兰光刻机巨头阿斯麦手中买到先进的EUV光刻机。

不过现在好消息传来了，国产EUV光刻机取得了新进展，近日由哈工大樊继壮教授领衔的科研团队，在极紫外光源制备技术上取得了重大突破。

据了解，哈工大团队采用放电等离子体技术，成功制备出了13.5nm的极紫外光源，并在多项性能指标上均展现出了显著优势，光源不仅能量转换效率更高，而且在体积和造价方面也更具竞争力。

此次哈工大取得的研发成果，对于国产EUV光刻机未来的进展，能够起到重大意义，将为国产EUV光刻机的研发提供强有力的技术支撑。

更关键的是，一旦国产EUV光刻机取得成功，那么中芯国际也将有机会加速进步，甚至有希望追上台积电，近日就有专家就做出了预测，并给出了中芯国际能够追赶上台积电的三大原因。

首先，芯片制造业无疑是一个资本密集型行业，单个代工厂的建设和运营成本往往高达上百亿美元。

中芯国际在这方面拥有显著优势，不仅拥有雄厚的自有资金，还得到了国家的坚定支持，这为中芯国际的持续扩张和技术升级提供了坚实保障。

其次，人才是半导体产业发展的核心要素之一。

中芯国际在吸引和培养工程人才方面具有独特优势，中国每年培养出数百万理工科相关毕业生，其中不乏半导体领域的专业人才。

这些人才为中芯国际提供了充足的人才储备，为技术创新和产能扩张提供了有力支撑，随着中芯国际在半导体领域的不断深耕，对人才的吸引力还将进一步增强，形成良性循环。

最后，也是最关键的一点，中芯国际在市场规模和客户需求方面具有独特优势。

中芯国际与台积电和一些西方企业不同，中芯国际无需花费大量精力开拓西方市场，因为中国市场就足够庞大。

依托内需市场和日益增长的半导体需求，中芯国际可以更加专注于国内市场，通过满足国内客户的多样化需求，实现规模经济，这不仅降低了中芯国际的市场开拓成本，还提供了稳定的业务增长基础。

但现在阻碍中芯国际追赶台积电的关键原因就是EUV光刻机，因为中企现在确实买不到EUV光刻机，但EUV光刻机却是尖端节点生产芯片的必要设备。

所以只要国产EUV取得阶段性的突破，能够开发出先进的EUV光刻机设备，那么中芯国际也就有机会赶上台积电了，到那时所谓的“芯片战争”也将随之结束！

不过对于中企而言，想要凭一己之力造出国产EUV光刻机确实太难了，尽管现在有专家团队在相关领域做出了一些成绩，但距离造出EUV光刻机还有很远的路要走。

荷兰阿斯麦之所以能造出EUV光刻机，并不是靠这一家公司就能造出来的，而是举全世界顶级科技公司之力，共同造出的这样一款设备，EUV光刻机的核心零部件来自全球多个国家和地区。

一台EUV光刻机，所涉及到的技术难度非常高，包括光学、机械、电子、材料等多个领域的前沿技术，可以说是西方近现代科技最高级别的呈现。

当然中国人从来就没有被困难折服的传统，一直以来中国人都是哪里有困难就往哪里攻克，所以我相信造出国产EUV不是不可能，只是时间问题罢了。

我相信未来几年，一定能传来越来越多国产EUV光刻机的消息，再给中国科学家们一点时间吧！对此你怎么看呢，欢迎评论、点赞、分享。