自从国产芯片产业界不断有好消息，美欧芯片行业的一些代表性企业的态度也不断转变了。

尤其是荷兰光刻机制造商阿斯麦，拒绝停止对中国市场光刻机的售后服务、恢复部分高端DUV光刻机对华出口，以及宣布扩大在中国市场维修中心规模。

果不其然的是，这些决策说明了一个不可忽视的趋势，中国在芯片制造领域的自主化进程正在加速，而阿斯麦等美欧芯片厂商不得不调整策略以应对这一变化。

1.

阿斯麦的第一个关键决定，是拒绝美国提出的“停止对华光刻机售后服务”的要求。2024年4月，美方试图通过限制阿斯麦的售后服务来削弱中国芯片制造能力。

不过，当时时任阿斯麦CEO的彼得·温宁克明确表示，公司没有理由不为已售出的设备提供支持。这一表态并非单纯出于道义，而是基于商业现实。

阿斯麦在中国市场的庞大装机量意味着售后服务是长期收入的重要来源，若贸然切断，不仅损害自身的收益，还可能加速中国企业自主替代的步伐。

第二个决定是荷兰政府放宽部分DUV光刻机对华出口限制。2024年9月，TWINSCAN NXT:1970i和1980i两款浸润式DUV光刻机重新获准出口中国。

这两款设备理论上可通过多重曝光技术生产7nm甚至5nm芯片，此前被西方严格管制。荷兰政府的政策松动，一方面源于阿斯麦的游说，另一方面则是因为中国市场的重要性已无法忽视。

第三个决定是阿斯麦宣布扩大在华维修中心规模，投入数亿欧元提升光刻机的本地维护能力。

这一举措表面上是为了巩固市场份额，但我们认为阿斯麦更多的是为了应对中国国产光刻机的潜在竞争。毕竟当前国产化替代浪潮不可逆。

2.

阿斯麦无法割舍的核心收入来源，正是中国市场日益增长的权重。2024年，阿斯麦在华营收达到101.95亿欧元，占总收入的36.1%，远超美国、韩国等传统市场。

但是，阿斯麦的供应链仍受制于美系技术，例如其EUV光刻机的光源来自美国企业。若美方进一步施压，阿斯麦可能面临两难选择：要么妥协，要么承受技术断供的风险。

因此，阿斯麦的三大决策本质上是在平衡商业利益与压力，既不能完全违背老美所谓的意愿，也不能忽视中国市场的现实需求。

当然从竞争角度来说，阿斯麦的焦虑不仅来自美国，更源于中国光刻机技术的快速进步。2024年，上海微电子宣布28nm浸润式光刻机即将商用，标志着中国在成熟制程领域已具备自主能力。

虽然与阿斯麦的EUV技术仍有差距，但这一突破意味着中国在中低端光刻机市场已具备替代能力。

让阿斯麦更担忧的是，中国在半导体设备领域的投入持续加大。一旦28nm光刻机实现量产，中国企业将逐步向更先进制程迈进。阿斯麦CEO克里斯托弗·福凯曾坦言，中国在成熟制程领域的自主化将使其在5-10年内对阿斯麦的高端市场构成挑战。

这一判断并非危言耸听。历史证明，一旦中国企业在某一技术领域突破关键节点，其产业化速度和成本优势往往能迅速改变全球竞争格局。

3.

阿斯麦的三大决策，本质上是在延缓中国半导体产业自主化的进程。通过提供更好的售后服务、放宽出口限制、加强本地化布局，阿斯麦希望维持在中国市场的份额，同时减缓中国国产光刻机的崛起速度。

但阿斯麦的这种“平衡术”能否长期奏效，仍存在不确定性。

一是，中国半导体产业的自主化趋势不可逆转。无论是政策支持还是企业投入，中国在光刻机领域的突破只是时间问题。

二是，全球半导体供应链的“碎片化趋势”也在加剧，有能力的市场都在推动本土芯片制造能力，以减少对美西方企业的依赖。

正因为如此，随着国产芯自主化进程不断加速，美欧企业的“态度”也不断地在转变，当阿斯麦维修中心的灯光在中国点亮，映照出的不仅是阿斯麦的处境，更是中国企业通过自主创新后赢得的议价能力。